[發明專利]一種防紫外老化太陽能電池背板膜及其制備方法有效
| 申請號: | 201710355689.3 | 申請日: | 2017-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN107221573B | 公開(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發明(設計)人: | 魏亮 | 申請(專利權)人: | 浙江帝恒實業有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/048 | 分類號: | H01L31/048;H01L31/049;C09D1/00;C09J11/04;C09J151/08 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫外 老化 太陽能電池 背板 及其 制備 方法 | ||
1.一種防紫外老化太陽能電池背板膜,是由內表層、芯層和外表層通過粘合劑粘接而成的,其特征在于:所述內表層和外表層均為改性二氧化硅納米涂層,芯層為非氟聚合物膜,所述非氟聚合物膜是由4,4'-二羥基二苯甲酮與4-(3,4-二氯苯氧基)哌啶經縮聚反應制得,所述粘合劑是由硅烷改性環氧樹脂、雙酚A二縮水甘油醚、二丙烯三胺和二氧化硅粉制備而成的。
2.如權利要求1所述防紫外老化太陽能電池背板膜,其特征在于,所述粘合劑是由如下重量份的原料充分混合后制備而成的:硅烷改性環氧樹脂60-70份、雙酚A二縮水甘油醚20-25份、二丙烯三胺10-15份、二氧化硅粉2-4份,所述二氧化硅粉的粒徑為5-55nm。
3.如權利要求1所述防紫外老化太陽能電池背板膜,其特征在于,所述硅烷改性環氧樹脂的制備方法為:在帶有冷凝管、滴液漏斗、溫控裝置和機械攪拌器的四口燒瓶中,將環氧樹脂溶于混合溶劑中,回流升溫至100-130℃,15-20min后加入乙烯基三乙氧基硅烷、引發劑偶氮二異丁腈,保溫反應4-5h后,再分三次每隔30-40min加入一次偶氮二異丁腈,后繼續保溫2-3h,停止反應,得到硅烷改性環氧樹脂。
4.如權利要求3所述防紫外老化太陽能電池背板膜,其特征在于:所述混合溶劑由乙醇與乙二醇醚按(3-4):1的重量比混合而成的,環氧樹脂、混合溶劑、乙烯基三乙氧基硅烷和引發劑偶氮二異丁腈的質量比為60:(300-420):10:(0.5-1),所述引發劑偶氮二異丁腈每次加入的量相等。
5.如權利要求1所述防紫外老化太陽能電池背板膜,其特征在于,所述改性二氧化硅納米涂層材料的制備方法為:將1-(甲氧基甲基)-1H-苯并三唑加入到懸浮有二氧化硅納米粒子的氯仿中,在惰性氣氛下,在80-90℃下回流攪拌20-30h,將所得物質離心分離,將分離得到的固體用氯仿洗凈后,在60-80℃下干燥15-26h得到改性二氧化硅涂層材料。
6.如權利要求5所述防紫外老化太陽能電池背板膜,其特征在于:所述1-(甲氧基甲基)-1H-苯并三唑、二氧化硅納米粒子、氯仿的質量比為1:(8-12):(40-60)。
7.如權利要求1所述防紫外老化太陽能電池背板膜,其特征在于,制備所述非氟聚合物膜所用的非氟聚合物材料的制備方法,包括如下步驟:
(1)在惰性氣體保護氛圍下,將4,4'-二羥基二苯甲酮、4-(3,4-二氯苯氧基)哌啶、甲苯、堿溶于溶劑,滴加到接有分水器的三口瓶中于110-130℃下回流反應4-8h,以甲苯為共沸劑將反應體系中的水通過分水器進行部分除去后,冷卻至室溫,在反應體系中加入分子篩4A型除去反應體系中剩余的水;
(2)在無水條件下,提高反應溫度至180-200℃,回流反應24-36h,后將反應體系冷卻至室溫,將反應后的溶液滴加到去離子水中,聚合物從去離子水中沉淀析出,將析出的聚合物用水和乙醇分別洗3-5遍,置于80-90℃下的真空干燥箱中干燥24h,得到芯層非氟聚合物膜材料;
其中,所述堿為碳酸鈉、碳酸鉀或碳酸銫中的一種;
所述溶劑為N,N-二甲基甲酰胺、二甲亞砜、N-甲基吡咯烷酮中的一種;
所述4,4'-二羥基二苯甲酮、4-(3,4-二氯苯氧基)哌啶、甲苯、堿和溶劑的質量比為1:(0.9-1.3):(7-13):(0.8-1.2):(16-25)。
8.如權利要求1-7中任一所述防紫外老化太陽能電池背板膜的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
1)芯層非氟聚合物膜的制備:將權利要求7制備得到的非氟聚合物溶于N-甲基吡咯烷酮中,配成濃度為2-5wt%的溶液,再將其澆注在聚四氟乙烯板上,在60-80℃下的干燥箱中干燥10-15h,制備得到厚度為35-50μm的非氟聚合物膜;
2)基膜處理:將步驟1)中制備得到的非氟聚合物膜放入等離子體腔內,在功率為100-200W下電暈處理12-30min;
3)膜上下兩表面涂覆膠黏劑:將步驟2)經電暈處理的非氟聚合物膜上下兩表面涂布膠黏劑,涂布厚度10-20μm,涂布速率為6mm/s;將涂布后的非氟聚合物膜在室溫下干燥10min,再在100℃下干燥40min;最后在130℃下干燥5min;
4)膜表面處理:將步驟3)中處理得到的非氟聚合物膜放入等離子體腔內,在功率為100-200W下電暈處理12-30min后,再在100-110℃下加熱2-3h,最后在室溫下靜置30h;
5)膜上下兩表面涂覆納米二氧化硅涂層:將改性二氧化硅涂層蒸鍍于步驟4)所述經表面處理后的涂覆有膠黏劑的非氟聚合物膜上下表面;
6)膜疊層:在100-110℃下通過層壓機將上述背板復合層進行層壓后,在100-110℃下硬化所述膜16-25min,然后再在室溫下硬化2-3天即可。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





