[發明專利]一種過濾膜的制備方法

在審

• 申請號: 201710354738.1
• 申請日: 2017-05-18
• 公開（公告）號: CN107158958A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 宋崇順;史曉華
• 申請（專利權）人: 蘇州光舵微納科技股份有限公司
• 主分類號: B01D67/00
• 分類號: B01D67/00
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司32232
• 代理人: 黃麗莉

1.一種過濾膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)涂膠，在基膜的表面涂覆一層均勻的壓印膠，在基膜表面形成壓印膠層；

2)壓印，壓印模板下壓，使得壓印模板上凸出的納米結構與壓印膠層表面接觸，在壓印膠層表面形成相應的圖形化納米結構；

3)刻蝕，利用刻蝕機對具有壓印膠層的基膜進行刻蝕，在基膜上刻蝕出相應的孔洞，形成過濾膜；

4)清洗，將過濾膜上多余的壓印膠通過酸溶液進行清洗。

2.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，所述基膜的厚度為3-7um。

3.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，所述壓印膠層的厚度為2-4um。

4.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，所述孔洞可為圓形、多邊形或橢圓形中的一種或多種。

5.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，所述壓印膠層的體積小于壓印模板的納米結構上凹陷結構的體積。

6.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，在所述步驟1)前還包括對基膜表面進行預清洗。

7.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，在所述步驟2)和步驟3)之間還包括以下內容：對具有圖形化納米結構的壓印膠層進行加熱固化。

8.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，還包括步驟5)烘干，對清洗好的過濾膜進行烘干。

9.根據權利要求1所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，在所述步驟1)中，將所述壓印膠分二次、三次或三次以上旋涂于所述基膜表面，且后一次的旋涂速度大于前一次。

10.根據權利要求9所述的過濾膜的制備方法，其特征在于，第一次旋涂速度為每分鐘500-1500轉；第二次旋涂速度為每分鐘1500-3000轉；第三次旋涂速度為每分鐘3000-5000轉。