[發明專利]一種TFT?LCD玻璃基板的回收方法

在審

• 申請號: 201710354597.3
• 申請日: 2017-05-19
• 公開（公告）號: CN107159680A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 白航空
• 申請（專利權）人: 合肥市惠科精密模具有限公司
• 主分類號: B09B3/00
• 分類號: B09B3/00;B08B3/08;B08B3/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及玻璃基板回收技術領域，具體涉及一種TFT-LCD玻璃基板的回收方法。

背景技術

液晶顯示屏(Liquid Crystal Display，簡稱LCD)具有清晰度高、圖像色彩好、無電磁輻射、省電、輕薄及便于攜帶等優點，已被廣泛應用于家用電器、電腦和通信產品中。中國是電子產品的生產和消費大國，一般而言，LCD的使用壽命僅為3-5年，根據前幾年我國液晶電視和液晶電腦顯示器的產量推測，2016年將有超過8000萬臺LCD報廢，隨著各類LCD報廢數量增加和LCD的快速更新換代，我國將面臨嚴峻的廢棄LCD回收處理問題。廢LCD中含有汞、鎘、鉻、鎳、鉛、鉬等有毒有害金屬及硒、砷、PBDE和PBB等有毒非金屬物質，如處理不當極易對環境造成污染，同時，廢LCD中含有的氧化銦錫(ITO)，玻璃基板、高分子偏光膜、金、銀、銅等物質都具有顯著的回收利用價值，因此不僅要對廢液晶顯示屏進行無公害處理，還要回收有用的資源，實現環境效益和經濟效益的和諧統一。

發明內容

本發明旨在提供了一種TFT-LCD玻璃基板的回收方法。

本發明提供如下技術方案：

一種TFT-LCD玻璃基板的回收方法，包括以下步驟：

(1)利用外力將TFT-LCD的三塊玻璃基板拆離，將玻璃基板分類為含有樹脂黑色矩陣膜玻璃基板、含有鉻黑矩陣膜玻璃基板和無矩陣膜玻璃基板，手工扯掉玻璃基板表面的保護膜；

(2)將含有樹脂黑色矩陣膜玻璃基板放在濃堿鈍化處理的不銹鋼器皿中浸泡，浸泡時間為20-60min，濃堿溶液溫度保持在50-100℃；

(3)用濃度為5-25％氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液對含有鉻黑矩陣膜玻璃基板進行浸泡，加熱溫度為50-100℃，經過40-120min脫掉含有鉻黑矩陣膜玻璃基板表面的高分子膜，再在室溫下利用濃度為5-20％氫氟酸溶液對含有鉻黑矩陣膜玻璃基板表面處理；

(4)將剝離后的無矩陣膜玻璃基板用質量分數為5-20％的氫氧化鈉溶液浸泡40-60min，并一邊攪拌一邊加熱，用肉眼觀察偏光片的去除，用光學金相顯微鏡觀察無矩陣膜玻璃基板表面，在常溫下，對于未處理干凈的的無矩陣膜玻璃基板用質量分數為5-15％氫氟酸溶液繼續浸泡10-18min去除，得到干凈的玻璃基板。

所述步驟(2)中濃堿為35-45％的氫氧化鈉溶液。

所述步驟(3)中氫氟酸的濃度為18％。

所述步驟(4)中攪拌加熱時間為45-50min。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明實現了對廢TFT-LCD玻璃基板的無害化處理，避免了產生二次污染，同時，還對不同類型的玻璃基板提供了不同的處理方法，節省了時間和成本；通過本發明的技術路線都可以有效的回收TFT-LCD玻璃基板，緩解目前玻璃基板供不應求的緊張局面，提高廢玻璃的利用附加值，并且處理簡單，易于實現工業化。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

實施例一種TFT-LCD玻璃基板的回收方法，包括以下步驟：

(1)利用外力將TFT-LCD的三塊玻璃基板拆離，將玻璃基板分類為含有樹脂黑色矩陣膜玻璃基板、含有鉻黑矩陣膜玻璃基板和無矩陣膜玻璃基板，手工扯掉玻璃基板表面的保護膜；

(2)將含有樹脂黑色矩陣膜玻璃基板放在濃堿鈍化處理的不銹鋼器皿中浸泡，浸泡時間為20-60min，濃堿溶液溫度保持在50-100℃；

(3)用濃度為5-25％氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液對含有鉻黑矩陣膜玻璃基板進行浸泡，加熱溫度為50-100℃，經過40-120min脫掉含有鉻黑矩陣膜玻璃基板表面的高分子膜，再在室溫下利用濃度為5-20％氫氟酸溶液對含有鉻黑矩陣膜玻璃基板表面處理；

(4)將剝離后的無矩陣膜玻璃基板用質量分數為5-20％的氫氧化鈉溶液浸泡40-60min，并一邊攪拌一邊加熱，用肉眼觀察偏光片的去除，用光學金相顯微鏡觀察無矩陣膜玻璃基板表面，在常溫下，對于未處理干凈的的無矩陣膜玻璃基板用質量分數為5-15％氫氟酸溶液繼續浸泡10-18min去除，得到干凈的玻璃基板。

所述步驟(2)中濃堿為35-45％的氫氧化鈉溶液。

所述步驟(3)中氫氟酸的濃度為18％。