[發(fā)明專利]折射率漸變寬帶增透膜的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710354590.1 | 申請(qǐng)日： | 2017-05-19 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107117828A | 公開(kāi)（公告）日： | 2017-09-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 晏良宏;呂海兵;嚴(yán)鴻維;劉太祥;楊科;李好;王韜;李合陽(yáng);袁曉東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號(hào)： | C03C17/30 | 分類號(hào)： | C03C17/30;G02B1/111 |
| 代理公司： | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11369 | 代理人： | 鄭健 |
| 地址： | 621900 四*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 折射率 漸變 寬帶 增透膜 制備 方法 | ||
1.一種折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟一、按重量份，取8～15份正硅酸乙酯，7～12份水，0.1～0.3份濃鹽酸，60～100份乙醇，0.05～0.2份聚乙二醇混合，以200rpm的速度攪拌3小時(shí)；密封在常溫常壓下靜止7天，得到溶膠；
步驟二、將熔石英光學(xué)元件垂直放在提拉鍍膜機(jī)上，緩慢將元件浸入溶膠中，靜止3～8分鐘后，以200～500mm/min的速度提拉鍍膜，形成的膜層在空氣中干燥5～15分鐘；
步驟三、將干燥的膜層浸入50～70℃的水中，浸泡20～60分鐘，取出后烘干，得到折射率漸變寬帶增透膜。
2.如權(quán)利要求1所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，在步驟一的攪拌過(guò)程中，向反應(yīng)液中通入氣體CO2和NH3；所述CO2和NH3通過(guò)加熱固體碳酸銨產(chǎn)生。
3.如權(quán)利要求2所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，所述CO2和NH3的流速為50-150mL/min。
4.如權(quán)利要求1所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，所述步驟一的過(guò)程替換為：按重量份，取8～15份正硅酸乙酯，7～12份水，0.1～0.3份濃鹽酸，60～100份乙醇，0.05～0.2份聚乙二醇混合，以200rpm的速度攪拌30～45min，然后加入1～3份鈦酸酯偶聯(lián)劑或鋯酸酯偶聯(lián)劑，得到的混合液置于恒溫槽中，選用探頭式脈沖超聲波儀器對(duì)混合液進(jìn)行超聲處理，處理完成后，密封在常溫常壓下靜止7天，得到溶膠；所述探頭式脈沖超聲波儀器的探頭插入混合液下8～12cm，混合液的液面高度保持15～20cm，脈沖時(shí)間為15～20s，占空比為60％～85％，恒溫槽中控制溫度為25℃，聲強(qiáng)為100～500W/cm2，超聲頻率25～45KHz，處理時(shí)間為60～120分鐘；所述探頭的直徑為25mm。
5.如權(quán)利要求4所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，在步驟一的超聲處理過(guò)程中，向混合液中通入氣體CO2和NH3；所述CO2和NH3通過(guò)加熱固體碳酸銨產(chǎn)生；所述CO2和NH3的流速為120-200mL/min。
6.如權(quán)利要求4所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，所述鈦酸酯偶聯(lián)劑為鈦酸酯偶聯(lián)劑TMC-201、鈦酸酯偶聯(lián)劑TMC-102、鈦酸酯偶聯(lián)劑TMCTMC-311w、鈦酸酯偶聯(lián)劑TMC-2、鈦酸酯偶聯(lián)劑TMC-401中的任意一種。
7.如權(quán)利要求1所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，在步驟三中，烘干后還包括以下處理過(guò)程；將烘干的膜層浸泡在表面處理劑中1～3min后，以200～350mm/min的速度提拉離開(kāi)表面處理劑，然后于80～100℃下干燥，即得到折射率漸變寬帶增透膜。
8.如權(quán)利要求7所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，將烘干后的處理過(guò)程替換為：將表面處理劑加入密封容器中，并將烘干的膜層浸泡在表面處理劑中，向密封容器中通入氮?dú)馐沟獨(dú)怙柡停缓髮⒚芊馊萜髦糜?.5MeV、40mA的電子加速器中進(jìn)行輻照浸泡處理，處理完成后打開(kāi)密封容器，以200～350mm/min的速度提拉膜層離開(kāi)表面處理劑，然后于80～100℃下干燥，即得到折射率漸變寬帶增透膜。
9.如權(quán)利要求7或8所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，所述表面處理劑包括以下重量份的成分：四甲基二氫二硅氧烷0.5～1份、苯基含氫硅油0.1～0.3份、1,3-二甲基咪唑六氟磷酸鹽1～3份、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯0.1～0.5份、六甲基二硅胺1～5份、三甲基戊烷10～20份、N,N-二甲基乙酰胺80～100份。
10.如權(quán)利要求8所述的折射率漸變寬帶增透膜的制備方法，其特征在于，所述輻照浸泡處理的輻照劑量率為100～200kGy/min，輻照劑量為200～400kGy。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心，未經(jīng)中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710354590.1/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
