[發(fā)明專利]硬掩模用組合物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710353841.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107526252B | 公開(公告)日: | 2022-01-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔漢永;梁敦植 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東友精細(xì)化工有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/11 | 分類號(hào): | G03F7/11 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鮮英;宋海花 |
| 地址: | 韓國全*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硬掩模用 組合 | ||
1.一種硬掩模用組合物,其包含共聚物和溶劑,所述共聚物包含下述化學(xué)式1所表示的重復(fù)單元,
[化學(xué)式1]
式中,Ar為選自由下述化學(xué)式1-1~下述化學(xué)式1-5所表示的基團(tuán)組成的組中的至少一種,
化學(xué)式1-1
化學(xué)式1-2
化學(xué)式1-3
化學(xué)式1-4
化學(xué)式1-5
R為氫原子、碳原子數(shù)1~6的烷基或碳原子數(shù)6~18的芳基,
所述V為乙烯基、乙炔基、或者被乙烯基或乙炔基取代的苯基,
所述X為選自由氫原子、下述化學(xué)式2-1和下述化學(xué)式2-2所表示的基團(tuán)組成的組中的至少一種,
化學(xué)式2-1
化學(xué)式2-2
所述Ar、R、V和X各自獨(dú)立地可被碳原子數(shù)1~6的烷基、羥基、甲氧基或苯基進(jìn)一步取代,
n為1~190的整數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬掩模用組合物,包含所述化學(xué)式1所表示的重復(fù)單元的共聚物是通過在由碳原子數(shù)6~35的芳基化合物與下述化學(xué)式p-1-1~p-1-3中的任一個(gè)所表示的化合物的縮合反應(yīng)制造的預(yù)聚物中添加下述化學(xué)式p-2-1~p-2-4中的任一個(gè)所表示的化合物而制造的化合物,
化學(xué)式p-1-1
HCHO
化學(xué)式p-1-2
化學(xué)式p-1-3
化學(xué)式p-2-1
化學(xué)式p-2-2
化學(xué)式p-2-3
化學(xué)式p-2-4
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬掩模用組合物,所述化學(xué)式1所表示的重復(fù)單元的含量在所述共聚物中為5~50摩爾%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬掩模用組合物,組合物總重量中,包含所述化學(xué)式1所表示的重復(fù)單元的共聚物的含量為5~15重量%,所述溶劑的含量為85~95重量%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬掩模用組合物,其進(jìn)一步包含交聯(lián)劑和催化劑中的至少一種。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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