[發明專利]一種反射式激光光束整形裝置

有效

• 申請號: 201710350039.X
• 申請日: 2017-05-18
• 公開（公告）號: CN106940481B
• 公開（公告）日: 2022-12-02
• 發明（設計）人: 秦應雄;潘新宇;丁靚;許介銘;彭浩;唐霞輝
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 廖盈春;李智

1.一種反射式激光光束整形裝置，其特征在于，包括：

相位調制鏡(1)，用于對入射激光進行相位調制處理并進行聚焦處理輸出第一激光；所述相位調制鏡設有相間排列的多個凹反射面(12)和多個凸反射面(11)；所述凹反射面(12)用于接收并反射入射激光的任意峰，所述凸反射面(11)用于接收并反射入射激光的任意峰；當所述凹反射面(12)與所述凸反射面(11)相鄰時，由所述凹反射面(12)反射的入射激光的峰與由所述凸反射面(11)反射的入射激光的峰相鄰；兩個相鄰的所述凸反射面(11)與所述凹反射面(12)的高度差使入射激光中兩個相鄰峰的光程差為入射激光波長的整數倍，所述第一激光的中心主峰的相位與所述第一激光的次級小峰的相位相同；

光闌(2)，其位于所述相位調制鏡(1)的焦點處，其孔徑與所述第一激光的中心主峰的寬度相同，用于對所述第一激光進行過濾處理，輸出過濾后激光，所述過濾后激光中僅存在中心主峰。

2.如權利要求1所述的反射式激光光束整形裝置，其特征在于，所述相位調制鏡(1)中，所述入射激光與任意一個凹反射面(12)的法線之間的夾角和所述入射激光與任意一個凸反射面(11)的法線之間的夾角相等，且凹反射面(12)與凸反射面(11)的高度差滿足公式

其中，Δ為兩個相鄰的凹反射面(12)與凸反射面(11)之間的高度差，λ為入射激光的波長，k為正整數，θ為入射激光與凹反射面(12)的法線之間的夾角。

3.如權利要求1至2任一項所述的反射式激光光束整形裝置，其特征在于，還包括準直鏡(3)，所述光闌(2)位于所述準直鏡(3)的焦點處，所述準直鏡(3)用于對過濾后激光進行準直處理，輸出準直后激光。

4.如權利要求3所述的反射式激光光束整形裝置，其特征在于，所述準直鏡(3)為反射式準直鏡。

5.如權利要求3所述的反射式激光光束整形裝置，其特征在于，所述相位調制鏡(1)的反射面上和所述準直鏡(3)的反射面上均鍍有增反膜。

6.如權利要求3所述的反射式激光光束整形裝置，其特征在于，所述相位調制鏡(1)和所述準直鏡(3)均為拋物面鏡。

7.如權利要求3所述的反射式激光光束整形裝置，其特征在于，所述相位調制鏡(1)和所述準直鏡(3)的內部均都設有環形水冷通道(4)，用于降低所述相位調制鏡(1)和所述準直鏡(3)的溫度。