[發明專利]一種具有釋放負離子功能的陶瓷磚及其制備方法

有效

• 申請號: 201710349611.0
• 申請日: 2017-05-17
• 公開（公告）號: CN107188615B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 趙光巖;劉俊榮;蔣祥莉
• 申請（專利權）人: 佛山歐神諾陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C03C8/20
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 王國標

1.一種具有釋放負離子功能的陶瓷磚，其特征在于：自下而上依次為磚坯層、透明釉層、凹陷釉料層和負離子材料層，所述凹陷釉料層在燒成時與透明釉層反應在透明釉層上形成凹槽結構，所述負離子材料層覆蓋在所述凹槽表面，所述凹槽結構的寬度范圍為0.8～1.8mm，平均深度范圍為0.15～0.18mm，所述負離子材料層由經稀土元素摻雜的電氣石材料形成，所述透明釉層的釉料按重量百分比計包括如下原料組分：長石20～30％、霞石15～25％、石英15～20％、方解石6～15％、白云石10～15％、BaCO₃ 13～16％、高溫熔塊5～12％和氧化鋅4～8％。

2.根據權利要求1所述的一種具有釋放負離子功能的陶瓷磚，其特征在于，所述透明釉層的釉料的化學成分按重量百分比計為：40～50％的SiO₂、5～10％的Al₂O₃、0.1～0.3％的Fe₂O₃、0～0.2％的TiO₂、8～12％的CaO、2.5～3.5％的MgO、2～4％的K₂O、1～3％的Na₂O、12～15％的BaO、4～8％的ZnO和10～15％的燒失。

3.一種如權利要求1或2所述的具有釋放負離子功能的陶瓷磚的制備方法，其特征在于，包括如下工藝步驟：

1)在經前處理后的磚坯層上布施透明釉料，得透明釉層；

2)在透明釉層的同一位置上依次布施凹陷釉料和負離子材料，后經燒成凹陷釉與透明釉反應形成凹槽結構和覆蓋在凹槽表面的負離子材料層。

4.根據權利要求3所述的一種具有釋放負離子功能的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟2)的負離子材料的粒徑小于40μm。

5.根據權利要求3所述的一種具有釋放負離子功能的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟2)燒成過程中的溫度為1180～1230℃。

6.根據權利要求3所述的一種具有釋放負離子功能的陶瓷磚的制備方法，其特征在于：步驟1)的前處理包括對磚坯層表面進行清理、布施面釉和印花。