[發明專利]可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置及清潔方法

有效

• 申請號: 201710347518.6
• 申請日: 2017-05-17
• 公開（公告）號: CN107151783B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: 毛朝斌;舒勇東;范江華;羅超;佘鵬程;胡凡;彭立波
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008
• 代理人: 周長清;徐好

1.一種可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置，包括腔體（101）、靶材（206）、以及安裝于腔體（101）上的磁控靶（20）和旋轉式的磁控靶擋板（106），其特征在于：所述腔體（101）外側設有第一接頭（304）、第二接頭（308）及升降機構（301），所述第一接頭（304）與所述腔體（101）之間設有絕緣件（305），所述第二接頭（308）與所述腔體（101）連通，所述升降機構（301）與所述磁控靶擋板（106）連接，所述磁控靶（20）電源的陽極與所述腔體（101）連通，所述磁控靶擋板（106）與所述腔體（101）連通，所述靶材（206）通過第一導線（109）與所述磁控靶（20）電源的陰極連通，所述磁控靶（20）的陽極罩（203）通過第二導線（306）與所述第一接頭（304）連通，所述磁控靶（20）包括固定座（201）和絕緣塊（202），所述固定座（201）套設于所述絕緣塊（202）上部外側，所述陽極罩（203）套設于所述絕緣塊（202）下部外側，所述絕緣塊（202）底部由內至外依次設有磁軛（211）、冷卻罩（205）及陰極罩（204），所述陽極罩（203）位于所述陰極罩（204）外側，所述磁軛（211）下部設有極性相反的磁鐵（208），所述陰極罩（204）將所述靶材（206）壓緊于所述冷卻罩（205）下方，所述第一導線（109）與所述冷卻罩（205）連通。

2.根據權利要求1所述的可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置，其特征在于：所述磁控靶擋板（106）通過磁流體密封部件（307）引出至所述腔體（101）外，所述腔體（101）外對應設有用于驅動磁控靶擋板（106）旋轉的旋轉氣缸（302），所述升降機構（301）與所述旋轉氣缸（302）連接。

3.一種權利要求1至2中任一項所述的可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置的清潔方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1、清潔準備：通過旋轉運動和升降運動調整磁控靶擋板（106）的位置，使磁控靶擋板（106）與磁控靶（20）的陽極罩（203）之間可進行輝光濺射；第一導線（109）連接至第一接頭（304）使陽極罩（203）與磁控靶（20）電源的陰極構成通路；

S2、清潔：磁控靶（20）電源在磁控靶擋板（106）與陽極罩（203）之間施加電壓，腔體（101）中充入工藝氣體，磁控靶擋板（106）與陽極罩（203）之間產生輝光濺射，將陽極罩（203）上的鍍層原子濺出。