[發(fā)明專利]可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置及清潔方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710347518.6
• 申請日: 2017-05-17
• 公開（公告）號: CN107151783B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛朝斌;舒勇東;范江華;羅超;佘鵬程;胡凡;彭立波
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙) 43008
• 代理人: 周長清;徐好

1.一種可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置，包括腔體（101）、靶材（206）、以及安裝于腔體（101）上的磁控靶（20）和旋轉(zhuǎn)式的磁控靶擋板（106），其特征在于：所述腔體（101）外側(cè)設(shè)有第一接頭（304）、第二接頭（308）及升降機(jī)構(gòu)（301），所述第一接頭（304）與所述腔體（101）之間設(shè)有絕緣件（305），所述第二接頭（308）與所述腔體（101）連通，所述升降機(jī)構(gòu)（301）與所述磁控靶擋板（106）連接，所述磁控靶（20）電源的陽極與所述腔體（101）連通，所述磁控靶擋板（106）與所述腔體（101）連通，所述靶材（206）通過第一導(dǎo)線（109）與所述磁控靶（20）電源的陰極連通，所述磁控靶（20）的陽極罩（203）通過第二導(dǎo)線（306）與所述第一接頭（304）連通，所述磁控靶（20）包括固定座（201）和絕緣塊（202），所述固定座（201）套設(shè)于所述絕緣塊（202）上部外側(cè)，所述陽極罩（203）套設(shè)于所述絕緣塊（202）下部外側(cè)，所述絕緣塊（202）底部由內(nèi)至外依次設(shè)有磁軛（211）、冷卻罩（205）及陰極罩（204），所述陽極罩（203）位于所述陰極罩（204）外側(cè)，所述磁軛（211）下部設(shè)有極性相反的磁鐵（208），所述陰極罩（204）將所述靶材（206）壓緊于所述冷卻罩（205）下方，所述第一導(dǎo)線（109）與所述冷卻罩（205）連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置，其特征在于：所述磁控靶擋板（106）通過磁流體密封部件（307）引出至所述腔體（101）外，所述腔體（101）外對應(yīng)設(shè)有用于驅(qū)動磁控靶擋板（106）旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)氣缸（302），所述升降機(jī)構(gòu)（301）與所述旋轉(zhuǎn)氣缸（302）連接。

3.一種權(quán)利要求1至2中任一項(xiàng)所述的可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置的清潔方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1、清潔準(zhǔn)備：通過旋轉(zhuǎn)運(yùn)動和升降運(yùn)動調(diào)整磁控靶擋板（106）的位置，使磁控靶擋板（106）與磁控靶（20）的陽極罩（203）之間可進(jìn)行輝光濺射；第一導(dǎo)線（109）連接至第一接頭（304）使陽極罩（203）與磁控靶（20）電源的陰極構(gòu)成通路；

S2、清潔：磁控靶（20）電源在磁控靶擋板（106）與陽極罩（203）之間施加電壓，腔體（101）中充入工藝氣體，磁控靶擋板（106）與陽極罩（203）之間產(chǎn)生輝光濺射，將陽極罩（203）上的鍍層原子濺出。