[發明專利]一種硅納米粒子微結構涂層光纖及其制作方法

有效

• 申請號: 201710347374.4
• 申請日: 2017-05-19
• 公開（公告）號: CN107179578B
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 李晉;范蕊;胡海峰
• 申請（專利權）人: 東北大學
• 主分類號: G02B6/02
• 分類號: G02B6/02;C03C25/12;C03C25/42
• 代理公司: 大連理工大學專利中心 21200
• 代理人: 梅洪玉

1.一種硅納米粒子微結構涂層光纖，包含有介質硅納米粒子和微米單模光纖，介質硅納米粒子通過去離子水沉積固化在微米單模光纖的內壁，介質硅納米粒子緊密排列，即形成分層堆棧微結構涂層；所述的介質硅納米粒子的形狀為球形，直徑為100nm；微米單模光纖由普通單模光纖經過高溫加熱拉制法得到，直徑為10微米。

2.權利要求1所述一種硅納米粒子微結構涂層光纖的制作方法，采用如下步驟：

步驟1：將微米單模光纖浸沒在盛滿去離子水的容器中，加入介質硅納米粒子，并用超聲振蕩方法使之均勻分散在去離子水中；

步驟2：利用介質硅納米粒子在重力場作用下自然沉積在微米單模光纖表面，同時納米粒子間的相互作用可保證介質硅納米粒子沉積后緊密排列，即形成分層堆棧微結構涂層，即完成在微米單模光纖表面的自沉積組裝；過程中需要保持恒溫攝氏度，以保證納米粒子的沉積速率和均勻性；

步驟3：將表面沉積有介質硅納米粒子微結構的光纖移入高溫爐內，400攝氏度高溫煅燒加固，即可得到結構穩定的硅微結構涂層光纖；利用重力作用下介質硅納米粒子的自然沉積，以及納米粒子自身的靜電吸附作用在微米單模光纖表面制備介質硅微結構涂層光纖。