[發明專利]半導體激光器的封裝結構及封裝方法在審
| 申請號: | 201710346340.3 | 申請日: | 2017-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN107221834A | 公開(公告)日: | 2017-09-29 |
| 發明(設計)人: | 史長明;張宏友;劉鳴;劉興勝 | 申請(專利權)人: | 西安炬光科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/024 | 分類號: | H01S5/024 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371 | 代理人: | 劉鋒 |
| 地址: | 710077 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體激光器 封裝 結構 方法 | ||
1.一種半導體激光器的封裝結構,其特征在于,包括封裝單元,所述封裝單元包括第一電極,第二電極,設置在所述第一電極和所述第二電極之間、且與所述第一電極和所述第二電極接觸的芯片,以及與所述芯片分隔的冷卻介質通道;
所述冷卻介質通道形成于所述第一電極和所述第二電極之間,或,所述冷卻介質通道形成于所述第一電極背離所述芯片的一側。
2.根據權利要求1所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,所述半導體激光器的封裝結構包括一個所述封裝單元;
所述封裝單元中,所述冷卻介質通道設置在所述第一電極和第二電極之間,且所述第一電極和第二電極之間還設置有第一絕緣隔層和第二絕緣隔層,所述第一絕緣隔層用以將所述冷卻介質通道與所述芯片分隔;所述第二絕緣隔層用于與所述第一絕緣隔層,以及所述第一電極、所述第二電極位于所述第一絕緣隔層和第二絕緣隔層之間的部分形成冷卻介質通道。
3.根據權利要求1所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,所述半導體激光器的封裝結構包括一個所述封裝單元;
所述封裝單元中,所述第一電極和所述第二電極之間設置有第一絕緣隔層;所述第一電極背離所述第二電極的一側開設有凹槽且設置有覆蓋所述凹槽的輔助件,所述凹槽與所述輔助件形成所述冷卻介質通道。
4.根據權利要求1所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,包括多個所述封裝單元,多個所述封裝單元依次疊置在一起形成疊陣結構。
5.根據權利要求4所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,每個所述封裝單元中,所述芯片鍵合在所述第一電極的第一端,且所述第一電極的第二端與所述芯片之間設置有第一絕緣隔層;
相鄰的封裝單元中,第一個封裝單元朝向第二個封裝單元的電極與第二個封裝單元朝向第一個封裝單元的電極為同一電極;
所述半導體激光器的封裝結構還包括絕緣底板,所述絕緣底板、所述電極與所述第一絕緣隔層之間形成所述冷卻介質通道。
6.根據權利要求5所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,每個所述電極的長度相同,所述絕緣底板與各所述電極的第二端連接;每個所述芯片兩側的所述電極和所述第一絕緣隔層以及所述絕緣底板之間形成獨立的所述冷卻介質通道。
7.根據權利要求5所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,位于所述疊陣結構首端的電極與位于所述疊陣結構末端的電極長度大于其他所述電極,且與所述絕緣底板連接;各所述電極和所述第一絕緣隔層以及所述絕緣底板之間形成所述冷卻介質通道。
8.根據權利要求5所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,所述電極長短交替排列,其中,長度較長的所述電極與所述絕緣底板連接;每個長度較短的電極與其兩側的長度較長的所述電極以及所述第一絕緣隔層、所述絕緣底板之間形成所述冷卻介質通道。
9.根據權利要求4所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,每個所述封裝單元中,所述芯片鍵合在所述第一電極的第一端;
相鄰的封裝單元中,第一個封裝單元朝向第二個封裝單元的電極與第二個封裝單元朝向第一個封裝單元的電極為同一電極;
所述封裝結構還包括絕緣腔體,且所述絕緣腔體內裝有所述冷卻介質;所有所述電極的第二端的從所述絕緣腔體的一側伸入所述絕緣腔體內;
所述絕緣腔體與各所述電極形成所述冷卻介質通道。
10.根據權利要求1-9中任一項所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,所述冷卻介質的流通方向平行于所述第一電極和/或所述第二電極位于所述冷卻介質通道區域內的表面。
11.根據權利要求4-9中任一項所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,多個所述封裝單元的冷卻介質通道連通,且冷卻介質從所述疊陣結構的首端流向所述疊陣結構的末端。
12.根據權利要求1-9中任一項所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,
所述第一電極和/或第二電極的材料的導熱系數在300-1000W/(m·K)范圍內。
13.根據權利要求1-9中任一項所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,所述冷卻介質通道內充入冷卻介質,所述冷卻介質為去離子水、氟利昂、液氨、液氮中的至少一種。
14.一種封裝方法,用于制備權利要求1-13中任一項所述的半導體激光器的封裝結構,其特征在于,包括:
S1:將所述芯片直接鍵合到所述第一電極和/或所述第二電極上;
S2:將S1得到的所述封裝單元疊置形成疊陣結構;
S3:向S2得到的所述疊陣結構中的所述冷卻介質通道內通入所述冷卻介質。
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