[發(fā)明專利]一種改變織構(gòu)凹陷直徑提高等離子噴涂層結(jié)合強(qiáng)度的結(jié)構(gòu)和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710344775.4
• 申請日: 2017-05-16
• 公開（公告）號: CN107151770A
• 公開（公告）日: 2017-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王海斗;邢志國;譚娜;馬國政
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍裝甲兵工程學(xué)院
• 主分類號: C23C4/02
• 分類號: C23C4/02;C23C4/134;C23C4/06
• 代理公司: 北京華圣典睿知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11510
• 代理人: 陳國偉

1.一種改變織構(gòu)凹陷直徑提高等離子噴涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)制備織構(gòu)化圖案：基于生物仿生學(xué)，利用激光過程在基體表面進(jìn)行圓形圖案的織構(gòu)化加工；

2)參數(shù)調(diào)整：根據(jù)步驟1)中形成的織構(gòu)化圖案調(diào)整噴涂工藝參數(shù)和織構(gòu)化圖案參數(shù)，以得到不同直徑的織構(gòu)化圖案；

3)涂層噴涂：利用超音速等離子噴涂方法對步驟1)所得的基體進(jìn)行噴涂；

4)涂層結(jié)合強(qiáng)度測試和校驗(yàn)：通過掃描電子顯微鏡觀察噴涂前織構(gòu)的幾何形貌和噴涂后涂層橫截面的SEM形貌；使用膠粘紙把棒狀零件粘接在涂層表面，通過測量拉開零件使涂層從基片上剝離所需力的大小，求得涂層的附著力。

2.如權(quán)利要求1所述的提高涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，在步驟1)之前還包括基體預(yù)處理步驟，對基體的表面進(jìn)行打磨清洗處理。

3.如權(quán)利要求1所述的提高涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，在步驟1)中所制備織構(gòu)化圖案的間距為70微米，圖案直徑為以下至少一種：40微米、60微米、80微米、100微米或120微米。

4.如權(quán)利要求3所述的提高涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，在步驟1)中，所用基體為FV520B。

5.如權(quán)利要求4所述的提高涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，步驟2)中所述噴涂工藝參數(shù)為：激光功率16W，掃描速度800mm/s，加工次數(shù)為1次。

6.如權(quán)利要求5所述的提高涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，所得到的織構(gòu)化圖案加工深度為60微米。

7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的提高涂層結(jié)合強(qiáng)度的方法，其特征在于，在步驟3)中所選用的涂層為NiCrBSi陶瓷涂層，通過超音速等離子噴涂得到厚度為500微米左右的噴涂涂層，其中NiCrBSi粉末的粒度為50-60微米。

8.一種改變織構(gòu)凹陷直徑提高等離子噴涂層結(jié)合強(qiáng)度的結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括基體、在所述基體上制備形成的圓形圖案的織構(gòu)化圖案，和在所述織構(gòu)化圖案上噴涂形成的涂層。

9.如權(quán)利要求8所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述織構(gòu)化圖案的間距為70微米，圖案直徑為以下至少一種：40微米、60微米、80微米、100微米或120微米。

10.如權(quán)利要求8所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基體為不銹鋼，所述涂層為NiCrBSi陶瓷涂層。