[發明專利]基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層

在審

• 申請號: 201710343127.7
• 申請日: 2017-05-16
• 公開（公告）號: CN107217231A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 馬丁·森斯;巫仕才;眭凌杰;賴納·霍夫曼;姜其偉;張燕聰;鐘育聰
• 申請（專利權）人: 福建新越金屬材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 泉州市博一專利事務所35213
• 代理人: 方傳榜

1.基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：該裝飾性涂層的膜系包含一個到多個化合物涂層，每個化合物涂層由一個部分至全部與氮N反應的硅-鈦合金組成。

2.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：每個化合物涂層化學式(Si:Ti)N_X，(Si:Ti)為硅Si和鈦Ti之間的比例，該比例為以純硅Si占主導的(100% Si : 0% Ti)或以純鈦Ti占主導的(0% Si : 100% Ti)或兩者之間任何比例的混合物；指數X在Nx中被描述為與氮N的反應系數，該反應系數X可以在X=0和X=1之間變化，這里X=0指0%的氮反應以及X=1指100%的氮反應或符合標定化學計量的混合物。

3.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：一個膜系的子集包含1到n個單一的化合物涂層，n是一個描述所應用的化合物涂層數量的非指定整數，每個化合物涂層需要與下方化合物涂層和/或上方化合物涂層有不同的成分比例，硅與鈦(Si:Ti)的混合比例不同或反應系數X不同或兩者都不同。

4.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：每個單一化合物涂層的涂層厚度在5nm到300nm之間變化。

5.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：在包含1到n個單一化合物涂層的膜系子集下方鍍有一個可選的附著層，并且該附著層是由金屬鈦Ti或金屬鋁Al組成。

6.如權利要求5所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：所述可選附著層AL的涂層厚度在20nm到30nm之間。

7.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：在包含1到n個單一化合物涂層的膜系子集上方鍍有一個可選的介質層。

8.如權利要求7所述的基于磁控共同濺射技術在鋁基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：所述介質層DL的涂層厚度在5nm到300nm之間變化。