[發明專利]一種G6型高效多晶自噴坩堝的噴涂工藝

在審

• 申請號: 201710340530.4
• 申請日: 2017-05-15
• 公開（公告）號: CN107185790A
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 張澤林
• 申請（專利權）人: 南通綜藝新材料有限公司
• 主分類號: B05D7/22
• 分類號: B05D7/22;B05D1/02;B05D1/38;B05D3/00
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• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明屬于噴涂工藝領域，具體涉及一種G6型高效多晶自噴坩堝的噴涂工藝。

背景技術

坩堝噴涂是利用不同于其它噴涂技術和方法，坩堝噴涂是涂裝坩堝通過加熱使其液態混合物(氮化硅)迅速附著在坩堝表面。涂裝坩堝的方法可分為加熱噴涂與滾涂兩種方法涂覆工藝，滾涂涂裝其技術工藝簡單，涂裝涂層不均，時間長，氮化硅使用量大，成本高，所以本發明使用較先進的工藝熱噴涂技術。

氮化硅分子式為Si₃N₄，是一種重要的結構陶瓷材料。它是一種超硬物質，本身具有潤滑性，并且耐磨損；除氫氟酸外，它不與其他無機酸反應，抗腐蝕能力強，高溫時抗氧化。而且它還能抵抗冷沖擊，有空氣中加熱到1000℃以上，急劇冷卻再急劇加熱，也不會碎裂。

發明內容

發明目的：為了解決現有技術的不足，本發明提供了一種G6型高效多晶自噴坩堝的噴涂工藝，避免坩堝與硅料發生反應而出現溢流、粘鍋等現象；優化噴涂工藝減少氮化硅的使用量，噴涂均勻，能夠降低生產成本。

技術方案：一種G6型高效多晶自噴坩堝的噴涂工藝，包括如下步驟：坩堝檢查——坩堝加熱——配粉——攪拌——試噴——噴涂——冷卻；

所述坩堝加熱中：坩堝加熱溫度恒定在84-86℃；

所述配粉中：按質量的配比配置如下種類的物品：氮化硅粉為650-850份，DI水用量為1900-2100份，硅溶膠為200-300份；

所述攪拌：用量杯量取配粉步驟中規定容積的DI水和硅溶膠進行攪拌，攪拌速度為500-600轉/min，攪拌時間為7-9min，攪拌均勻；然后加入配粉步驟中規定重量的氮化硅粉，以同樣的速度攪拌14-16min；

所述試噴：噴槍壓力范圍是33psi-37psi，先在紙板上試噴，當噴射的液體在紙板上呈均勻霧狀分布，寬度在3-5cm，表明噴槍可以用于正式噴涂；

所述噴涂：噴槍離距所需的噴涂表面垂直距離為30-40cm，定位著落坩堝寬度為15-20cm，通過橫豎交叉狀態均勻噴涂，待底層干后方再噴涂第二遍，底部噴涂5遍，坩堝高度440mm往上不需要噴涂，在噴涂過程中一次噴涂厚度控制在小于0.01mm內，坩堝噴涂溫度在40℃-65℃。

作為優化：所述配粉中：按質量的配比配置如下種類的物品：氮化硅粉為750份，DI水用量為2000份，硅溶膠為250份。

作為優化：所述攪拌：用量杯量取配粉步驟中規定容積的DI水和硅溶膠進行攪拌，攪拌速度為550轉/min，攪拌時間為8min，攪拌均勻；然后加入配粉步驟中規定重量的氮化硅粉，以同樣的速度攪拌15min。

作為優化：所述試噴：噴槍壓力范圍是35psi，先在紙板上試噴，當噴射的液體在紙板上呈均勻霧狀分布，寬度在4cm，表明噴槍可以用于正式噴涂。

作為優化：所述噴涂：噴槍離距所需的噴涂表面垂直距離為35cm，定位著落坩堝寬度為18cm，通過橫豎交叉狀態均勻噴涂，待底層干后方再噴涂第二遍，底部噴涂5遍，坩堝高度440mm往上不需要噴涂，在噴涂過程中一次噴涂厚度控制在小于0.01mm內，坩堝噴涂溫度在55℃。

有益效果：本發明中的坩堝噴涂用純水和硅膠把粉末噴料氮化硅涂噴在坩堝表面，在加熱作用下，使液態氮化硅均勻的吸附坩堝表面，形成粉狀涂層，涂層目的是保護石英坩堝在高溫下石英坩堝與硅隔離，使液態硅不與石英坩堝反應，而使石英坩堝破裂，及冷確后最終保證硅碇脫膜完整性。

其中，使用純水和硅膠把氮化硅噴在坩堝的內表面，使其吸附在坩堝內壁和底部，在鑄錠過程中隔離坩堝與硅料，避免坩堝與硅料發生反應而出現溢流、粘鍋等現象；實現G6型高效多晶自噴坩堝批量化生產，實現大尺寸坩堝噴涂工藝開發。

本發明將配制好的硅液涂料用凈化的壓縮空氣進行噴涂，噴槍壓力為33psi-37psi，噴涂距離為30-40cm，定位著落坩堝寬度為15-20cm，在噴涂過程中一般一次噴涂厚度控制在小于0.01mm內，否則在加熱過程中易出現硅裂.起泡.針孔等，坩堝噴涂溫度在40℃-65℃內。

具體實施方式

下面將對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，以使本領域的技術人員能夠更好的理解本發明的優點和特征，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚的界定。本發明所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

具體實施例1