[發(fā)明專利]一種內(nèi)嵌式打標頭

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710337943.7
• 申請日: 2017-05-15
• 公開（公告）號: CN106994836A
• 公開（公告）日: 2017-08-01
• 發(fā)明（設計）人: 張建明
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州盛達織帶有限公司
• 主分類號: B41J3/407
• 分類號: B41J3/407;B41J2/225
• 代理公司: 北京瑞思知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙)11341
• 代理人: 王衛(wèi)婷

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種織帶打標技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種內(nèi)嵌式打標頭。

背景技術(shù)

打標在生產(chǎn)中，依據(jù)國家相關(guān)規(guī)定或企業(yè)自身管理需要，在產(chǎn)品上進行文字、圖片等標識，如：生產(chǎn)日期、有效期、產(chǎn)品編號等，這個過程被稱為打標，而打標頭是打標過程中的主要加工件，其要求也越來越高，目前市場上的打標頭大多為固定形式的標頭，這就導致了在打標過程中對產(chǎn)品表面造成較大沖擊，易損壞產(chǎn)品。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種內(nèi)嵌式打標頭，能夠?qū)⒋驑藯U內(nèi)嵌在外殼內(nèi)部，從而實現(xiàn)在打標的過程中外殼先下壓，打標桿后進行打標的目的，有效減少了打標桿對產(chǎn)品表面的沖擊力，提高打標后的產(chǎn)品質(zhì)量。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是：提供一種內(nèi)嵌式打標頭，包括：底座以及外殼，所述底座內(nèi)開設有滑槽，所述外殼的底部內(nèi)嵌在所述滑槽內(nèi)，所述外殼內(nèi)部空心，且在內(nèi)部固定安裝有一彈簧，所述彈簧的一端固定連接在所述底座的中心，另一端固定連接在所述外殼內(nèi)部的頂端，所述外殼上開設有打標孔，所述底座的中心安裝有打標桿，所述打標桿的桿尖貫穿所述彈簧位于所述打標孔內(nèi)。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述打標桿與所述外殼的連接出安裝有軸承。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述打標桿與所述底座之間為可拆卸連接。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述滑槽的深度不小于加工深度。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明一種內(nèi)嵌式打標頭能夠?qū)⒋驑藯U內(nèi)嵌在外殼內(nèi)部，從而實現(xiàn)在打標的過程中外殼先下壓，打標桿后進行打標的目的，有效減少了打標桿對產(chǎn)品表面的沖擊力，提高打標后的產(chǎn)品質(zhì)量。

附圖說明

圖1是本發(fā)明在一較佳實施例中的結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、底座，2、外殼，3、打標桿，4、彈簧,5、軸承，11、滑槽，21、打標孔。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1，本發(fā)明實施例包括：

一種內(nèi)嵌式打標頭，包括：底座1以及外殼2，所述底座1內(nèi)開設有滑槽11，所述外殼2的底部內(nèi)嵌在所述滑槽11內(nèi)，所述外殼2內(nèi)部空心，且在內(nèi)部固定安裝有一彈簧4，所述彈簧4的一端固定連接在所述底座1的中心，另一端固定連接在所述外殼2內(nèi)部的頂端，所述外殼2上開設有打標孔21，所述底座1的中心安裝有打標桿3，所述打標桿3的桿尖貫穿所述彈簧4位于所述打標孔21內(nèi)。

其中，所述打標桿3與所述外殼2的連接出安裝有軸承5，防止打標桿3表面磨損，影響打標質(zhì)量。

所述打標桿3與所述底座1之間為可拆卸連接，便于拆卸及更換。

所述滑槽11的深度不小于加工深度。

區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明一種內(nèi)嵌式打標頭能夠?qū)⒋驑藯U3內(nèi)嵌在外殼2內(nèi)部，從而實現(xiàn)在打標的過程中外殼2先下壓，打標桿3后進行打標的目的，有效減少了打標桿對產(chǎn)品表面的沖擊力，提高打標后的產(chǎn)品質(zhì)量。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。