[發(fā)明專(zhuān)利]太赫茲用光學(xué)識(shí)別元件、識(shí)別裝置及識(shí)別單元用照明裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710333917.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107300527B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔成旭;金玹廷;李羅利;張玄珠;玉景植 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 韓國(guó)食品研究院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/17 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/17;G01N21/84 |
| 代理公司: | 北京青松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 鄭青松 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 赫茲 用光 識(shí)別 元件 裝置 單元 照明 | ||
1.一種太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件,其特征在于,
包括m個(gè)識(shí)別單元,
m個(gè)識(shí)別單元以非陣列組形式設(shè)置,且m個(gè)識(shí)別單元彼此相鄰地布置,使得每個(gè)識(shí)別單元具有不同于相鄰的識(shí)別單元的固有諧振頻率,從而在識(shí)別單元的小面積內(nèi)表示大量的識(shí)別碼,
所述識(shí)別單元,包括:
太赫茲波透過(guò)層,由使太赫茲波透過(guò)的物質(zhì)構(gòu)成;及
導(dǎo)波衍射光柵,若照射已透過(guò)的太赫茲波,則在固有諧振頻率中產(chǎn)生諧振,且所述固有諧振頻率為從第一固有諧振頻率至第n固有諧振頻率中的一個(gè),且
太赫茲用光學(xué)識(shí)別元件為,
所述固有諧振頻率的種類(lèi)為n個(gè),所述識(shí)別單元的個(gè)數(shù)為m個(gè),因此能夠體現(xiàn)的識(shí)別碼為nm個(gè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件,其特征在于
所述識(shí)別單元的排列意味著識(shí)別碼與另一識(shí)別信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件,其特征在于,
所述識(shí)別單元為,
排列成線(xiàn)形、圓形、四角形、格子模樣及交叉模樣中的至少一個(gè)模樣。
4.一種太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件識(shí)別裝置,其特征在于,包括:
太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件,包括m個(gè)識(shí)別單元,m個(gè)識(shí)別單元以非陣列組形式設(shè)置,且m個(gè)識(shí)別單元彼此相鄰地布置,使得每個(gè)識(shí)別單元具有不同于相鄰的識(shí)別單元的固有諧振頻率,從而在識(shí)別單元的小面積內(nèi)表示大量的識(shí)別碼,其中所述識(shí)別單元包括太赫茲波透過(guò)層及導(dǎo)波衍射光柵,其中所述太赫茲波透過(guò)層由只使太赫茲波透過(guò)的物質(zhì)構(gòu)成,所述導(dǎo)波衍射光柵為若照射已透過(guò)的太赫茲波則在固有諧振頻率中產(chǎn)生諧振,且所述固有諧振頻率為從第一固有諧振頻率至第n固有諧振頻率中的一個(gè);
光源,向所述太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件照射太赫茲波;及
檢測(cè)部,檢測(cè)從所述太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件生成的太赫茲波的固有諧振頻率,且
太赫茲用光學(xué)識(shí)別元件為,
所述固有諧振頻率的種類(lèi)為n個(gè),所述識(shí)別單元的個(gè)數(shù)為m個(gè),因此能夠體現(xiàn)的識(shí)別碼為nm個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件識(shí)別裝置,其特征在于,還包括:
識(shí)別部,基于按照所述識(shí)別單元分別檢測(cè)到的固有諧振頻率來(lái)識(shí)別識(shí)別碼。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件識(shí)別裝置,其特征在于,還包括:
光源-檢測(cè)部移動(dòng)部,使光源移動(dòng)以使在所述光源生成的太赫茲波按順序照射于所述識(shí)別單元,同時(shí)按照所述光源的移動(dòng)距離來(lái)移動(dòng)檢測(cè)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件識(shí)別裝置,其特征在于,還包括:
光學(xué)識(shí)別元件移動(dòng)部,使所述太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件移動(dòng),以使在所述光源生成的太赫茲波按順序照射于所述識(shí)別單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件識(shí)別裝置,其特征在于,
光源-檢測(cè)部移動(dòng)部,使所述光源向一個(gè)方向移動(dòng),同時(shí)按照所述光源的移動(dòng)距離來(lái)移動(dòng)所述檢測(cè)部;及
光學(xué)識(shí)別元件移動(dòng)部,使所述太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件向其他方向移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太赫茲波用光學(xué)識(shí)別元件識(shí)別裝置,其特征在于,
所述光源為,
包括多個(gè)能夠生成太赫茲波的光源的光源陣列,
所述檢測(cè)部為,
包括多個(gè)匹配于所述光源陣列的檢測(cè)部的檢測(cè)部陣列。
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G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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