[發明專利]基底層、具有基底層的研磨墊及研磨方法

有效

• 申請號: 201710333465.2
• 申請日: 2017-05-12
• 公開（公告）號: CN107398828B
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 林庚逸;潘毓豪;白昆哲
• 申請（專利權）人: 智勝科技股份有限公司
• 主分類號: B24B37/22
• 分類號: B24B37/22;B24B37/24
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬雯雯;臧建明

1.一種基底層，適用于襯墊研磨墊的研磨層，其特征在于：所述基底層系為立體三維織物，包括：

上織物層；

下織物層；以及

支撐織物層，位于所述上織物層以及所述下織物層之間，

其中，所述上織物層與所述下織物層分別是由多條第一組紗及多條第二組紗互相交織而形成，所述支撐織物層是由多條支撐紗所形成且穿梭配置于所述上織物層與所述下織物層之間，以使所述上織物層與所述下織物層之間具有空間。

2.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述立體三維織物具有規則性重復排列的三維結構。

3.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述多個第一組紗及所述多個第二組紗分別在X-Y軸所構成平面方向上延伸，并以具有規則性重復排列方式互相交織成網格。

4.根據權利要求3所述的基底層，其特征在于，所述網格的形狀包括方格形、菱形、平行四邊形、三角形、六角形、八角形、或其組合。

5.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述上織物層與所述下織物層為緊密交織或非緊密交織。

6.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述多個支撐紗與所述上織物層與所述下織物層的至少部份所述多個第一組紗或所述多個第二組紗交織。

7.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述多個支撐紗在Z軸方向上延伸，并以具有規則性的方式重復排列。

8.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述多個支撐紗為不具有內部交織型態或具有內部交織型態。

9.根據權利要求8所述的基底層，其特征在于，所述多個支撐紗為不具有內部交織型態，且其所構成的排列方式為多方向弧狀、同方向弧狀、環狀、螺旋狀、直線狀、或其組合。

10.根據權利要求8所述的基底層，其特征在于，所述多個支撐紗為具有內部交織型態，且其內部交織的形狀為X形、S形、三角形、四角形、六角形、或其組合。

11.根據權利要求1所述的基底層，其特征在于，所述立體三維織物的材料包括聚酯纖維、耐龍纖維、彈性纖維、玻璃纖維、碳纖維、凱芙拉纖維、天然纖維、或其組合。

12.一種基底層，適用于襯墊研磨墊的研磨層，其特征在于：所述基底層系為立體三維織物，包括：

上織物層；

下織物層；以及

支撐織物層，位于所述上織物層以及所述下織物層之間，且所述基底層的平均抗拉強度大于50kgf/cm²且壓縮率大于11％。

13.根據權利要求12所述的基底層，其特征在于，所述立體三維織物具有規則性重復排列的三維結構。

14.根據權利要求12所述的基底層，其特征在于，所述立體三維織物的材料包括聚酯纖維、耐龍纖維、彈性纖維、玻璃纖維、碳纖維、凱芙拉纖維、天然纖維、或其組合。

15.一種研磨墊，其特征在于，包括：

研磨層；以及

基底層，配置于所述研磨層下方，所述基底層系為立體三維織物，包括：

上織物層；

下織物層；以及

支撐織物層，位于所述上織物層以及所述下織物層之間，

其中，所述上織物層與所述下織物層分別是由多條第一組紗及多條第二組紗互相交織而形成，所述支撐織物層是由多條支撐紗所形成且穿梭配置于所述上織物層與所述下織物層之間，以使所述上織物層與所述下織物層之間具有空間。

16.根據權利要求15所述的研磨墊，其特征在于，所述立體三維織物具有規則性重復排列的三維結構。