[發明專利]去微弧氧化膜層藥劑、去微弧氧化膜層方法

在審

• 申請號: 201710333096.7
• 申請日: 2017-05-12
• 公開（公告）號: CN108866596A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 李連成
• 申請（專利權）人: 昆山漢鼎精密金屬有限公司
• 主分類號: C25D11/02
• 分類號: C25D11/02;C23G1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及微弧氧化技術領域，具體是涉及一種去微弧氧化膜層藥劑、去微弧氧化膜層方法，用于對不良品工件進行去微弧氧化膜層處理。該去微弧氧化膜層藥劑，以濃度計，包括：有機酸，45g/L?60g/L，溶劑是去離子水。去微弧氧化膜層的方法包括：首先，將不良品工件浸沒在所述去微弧氧化膜層藥劑中；同時，用銅刷刷洗不良品工件的表面；其后，清除掉表面由灰白變黑的微弧氧化膜層，清洗烘干之后即可進行再次微弧氧化。本發明的去微弧氧化膜層藥劑能夠去除微弧氧化膜層，去除掉后，相關工件可以重新進行微弧氧化，并且其性能不會受到影響。

【技術領域】

本發明涉及微弧氧化技術領域，具體是涉及一種去微弧氧化膜層藥劑、去微弧氧化膜層方法。

【背景技術】

微弧氧化是近年來新興的一種金屬表面處理方式。微弧氧化技術能在鎂、鋁合金表面制備一層陶瓷氧化膜，從而能夠極大改善鎂、鋁合金的耐磨損、耐腐蝕性能。現階段，在生產線微弧氧化工藝得到較廣泛的運用。但是，由于電解液配方不成熟、氧化時的電參數設置不完善、生產過程中的不規范操作等諸多因素導致一定數量的不良品產生，對企業而言是一項較大的成本浪費。因此，需要設法去除掉不良品上的氧化膜，重新進行微弧氧化。

有鑒于此，實有必要開發一種去微弧氧化膜層藥劑、去微弧氧化膜層方法，以解決上述問題。

【發明內容】

因此，本發明的目的是提供一種去微弧氧化膜層藥劑、去微弧氧化膜層方法。該去微弧氧化膜層藥劑、去微弧氧化膜層方法能夠對不良品工件進行清洗，去除其表面上的氧化膜。

為了達到上述目的，該去微弧氧化膜層藥劑，以濃度計，包括：

有機酸，45g/L-60g/L；

溶劑是去離子水。

可選地，所述有機酸是草酸、a-氨基酸、酒石酸、丙醇酸、苯甲酸、檸檬酸、乙酸、己二酸中的一種或多種。

可選地，所述去離子水的溫度控制在20℃-60℃。

可選地，所述去微弧氧化膜層藥劑酸性的pKa值控制在0.5-6.4內。

本發明還提供一種使用上述去微弧氧化膜層藥劑進行去微弧氧化的方法。概述如下：

首先，配置上述去微弧氧化膜層藥劑；然后，將不良品工件浸入所述去微弧氧化膜層藥劑中；一段時間后，清除掉表面的微弧氧化層，對工件進行清洗。

相較于現有技術，本發明的去微弧氧化膜層藥劑能夠去除微弧氧化膜層，去除掉后，相關工件可以重新進行微弧氧化。由此，解決了由于微弧氧化效果不及預期而產生大量不良品工件的問題。

【附圖說明】

圖1繪示為去微弧氧化膜層方法流程圖。

【具體實施方式】

首先，對工件表面進行前處理，經過打磨、脫脂、酸洗、水洗、化成、烘干等工序，之后進行微弧氧化。然后，配置微弧氧化電解液。

微弧氧化電解液配方如下：

成膜劑，5g/L-25g/L；

PH值調節劑：5g/L-25g/L；

輔助成膜劑：5g/L-20g/L。

其中，反應溫度控制在20℃-40℃，電解液的PH值控制在9.0-13.0。

其中，成膜劑為硅酸鹽、磷酸鹽、鋁酸鹽中的一種或其混合物。

其中，PH值調節劑為氫氧化鈉或氫氧化鉀中一種，PH值一般控制在10-13 范圍內。

其中，輔助成膜劑為含氟化合物,如氟化鉀或氟化鈉。