[發明專利]高維空間自適應采樣方法及真實感圖像繪制方法在審
| 申請號: | 201710329440.5 | 申請日: | 2017-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN107248189A | 公開(公告)日: | 2017-10-13 |
| 發明(設計)人: | 邱春芳;武博;龔丹丹;王凌 | 申請(專利權)人: | 上海精密計量測試研究所;上海航天信息研究所 |
| 主分類號: | G06T15/06 | 分類號: | G06T15/06;G06T15/20;G06T15/50 |
| 代理公司: | 上海航天局專利中心31107 | 代理人: | 余岢 |
| 地址: | 201109 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 空間 自適應 采樣 方法 真實感 圖像 繪制 | ||
1.高維空間自適應采樣方法,包括初始稀疏采樣和自適應采樣,其特征在于,所述自適應采樣中,在生成候選采樣點時,將采樣空間放大到原始的對應的KD-Tree 節點的包圍盒的N倍,N>1。
2.如權利要求1所述的高維空間自適應采樣方法,其特征在于,N=1.1。
3.如權利要求1所述的高維空間自適應采樣方法,其特征在于,所述初始稀疏采樣中,采用自適應尺度估計技術在不同維度上分布采樣點。
4.如權利要求3所述的高維空間自適應采樣方法,其特征在于,所述自適應尺度估計技術具體為:對每一維度,先沿該維度把采樣點均勻分布到B 個桶中;對于每個桶中的采樣點,統計其方差以衡量其分布上的差異;進一步計算該維度對應的所有的桶的方差的方差;最后根據每一維度的方差來計算每個維度對應所需要的尺度;根據每個維度對應所需要的尺度分布各維度的采樣點。
5.如權利要求5所述的高維空間自適應采樣方法,其特征在于,所述初始稀疏采樣中,B=10。
6.真實感圖像繪制方法,其特征在于,采用如權利要求1至5中任一權利要求所述的高維空間自適應采樣方法進行采樣。
7.如權利要求6所述的真實感圖像繪制方法,其特征在于,所述真實感圖像繪制方法還包括圖像重建。
8.如權利要求7所述的真實感圖像繪制方法,其特征在于,圖像重建包括兩部分,第一部分對高維空間上的光亮度函數進行重建,第二部分對上述重建光亮度函數在非圖像空間維度進行積分,進而得出最終繪制圖像。
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