[發明專利]一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法在審
| 申請號: | 201710328467.2 | 申請日: | 2017-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN106908302A | 公開(公告)日: | 2017-06-30 |
| 發明(設計)人: | 尚爾峰;段雙;王志明 | 申請(專利權)人: | 沈陽鑄造研究所 |
| 主分類號: | G01N1/32 | 分類號: | G01N1/32 |
| 代理公司: | 沈陽世紀藍海專利事務所(普通合伙)21232 | 代理人: | 侯志奇 |
| 地址: | 110022 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鑄造 鈦合金 金相 試樣 機械拋光 方法 | ||
1.一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法,其特征在于:所述的一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法包括以下步驟:
(1)鑄造純鈦及鈦合金金相試樣經研磨后,使用尼龍拋光布和氧化硅拋光液進行機械粗拋光,拋光至磨削劃痕去除,拋光液為納米二氧化硅顆粒、雙氧水和蒸餾水的混合溶液,配比為3g:12ml:88ml;
(2)將粗拋光后的金相試樣置于腐蝕溶液中浸蝕5秒,腐蝕溶液是由氫氟酸2ml、濃硝酸5ml和蒸餾水93ml混合而成;
(3)使用絲絨拋光布和氧化硅拋光液對浸蝕后的金相試樣進行機械精拋光,拋光至鏡面。
2.根據權利要求1所述的一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法,其特征在于:步驟(1)中所述納米二氧化硅顆粒為氣相二氧化硅,雙氧水的質量百分比濃度為30%。
3.根據權利要求1所述的一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法,其特征在于:步驟(2)中所述氫氟酸的質量百分比濃度為40%,濃硝酸的質量百分比濃度為65-68%。
4.根據權利要求1-3任一項所述的一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光方法,其特征在于:所述雙氧水、氫氟酸和濃硝酸均為分析純化學試劑。
5.根據權利要求1所述的一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法,其特征在于:所述的一種鑄造純鈦及鈦合金金相試樣機械拋光制樣方法的工作原理及使用操作方法是,金相試樣經研磨后,表面雖平整但布滿磨削痕;首先使用尼龍拋光布和氧化硅拋光液進行粗拋光,利用二氧化硅顆粒與試樣表面的摩擦力,可快速去除大部分磨削劃痕,但仍有拋光痕及少量磨削劃痕殘留;將粗拋光后的試樣浸于腐蝕溶液中,可使試樣表面活化并形成一層薄軟化層,有利于殘留劃痕的消除;然后使用絲絨拋光布和氧化硅拋光液對浸蝕后的試樣進行精拋光,由于絲絨拋光布柔軟細密,可完全去除磨削劃痕且不產生拋光痕,使拋光后的試樣達到鏡面效果。
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