[發明專利]水基游離磨料切割液及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 201710327754.1
• 申請日: 2017-05-11
• 公開（公告）號: CN107177404A
• 公開（公告）日: 2017-09-19
• 發明（設計）人: 李健;董振峰;趙鵬程
• 申請（專利權）人: 濟源石晶光電頻率技術有限公司
• 主分類號: C10M173/02
• 分類號: C10M173/02
• 代理公司: 鄭州德勤知識產權代理有限公司41128
• 代理人: 宋文龍

1.一種水基游離磨料切割液，其特征在于：它的原料包括切割砂、切割液原液、防銹劑和純水，所述切割液原液由質量比為1：（0.5～2）的丙三醇和二乙二醇組成。

2.根據權利要求1所述的水基游離磨料切割液，其特征在于：所述切割砂、所述切割液原液、所述防銹劑和所述純水的質量比為（1～3）：（0.5～3）：0.1：1.2。

3.根據權利要求2所述的水基游離磨料切割液，其特征在于：所述切割砂為1000目～1200目的綠碳化硅。

4.根據權利要求3所述的水基游離磨料切割液，其特征在于：所述防銹劑為亞硝酸鈉、亞硫酸鈉、十二烷基磺酸鈉中的一種或幾種的組合。

5.根據權利要求4所述的水基游離磨料切割液，其特征在于：所述防銹劑為亞硝酸鈉。

6.一種水基游離磨料切割液的制備方法，其步驟包括：

首先在攪拌條件下，向切割液原液中加入防腐劑和純水形成原料預混液；然后在攪拌條件下向所述原料預混液中緩慢加入切割砂，制得所述水基游離磨料切割液；其中上述步驟中，所述切割砂、所述切割液原液、所述防銹劑和所述純水質量比為（1～3）：（0.5～3）：0.1：1.2；所述切割液原液由質量比為1：（0.5～2）的丙三醇和二乙二醇組成。

7.一種水基游離磨料切割液的應用，其特征在于：所述水基游離磨料切割液作為石英晶片線切割加工工藝中的切割液進行應用。