[發明專利]紅外線加熱烹調裝置

在審

• 申請號: 201710327592.1
• 申請日: 2017-05-10
• 公開（公告）號: CN107184076A
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 李琎熙
• 申請（專利權）人: 嘉易烤株式會社
• 主分類號: A47J27/00
• 分類號: A47J27/00;A47J37/06
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司11228
• 代理人: 張瑾

技術領域

本發明涉及一種利用紅外線的加熱烹調裝置，尤其涉及一種適合在室內或室外在依次層疊的烹調盤上烹調一種以上料理時最大限度減少外部環境對烹調盤的影響的紅外線加熱烹調裝置。

背景技術

通常情況下，肉眼看不到紅外線，其在空氣中不易散射，并具備比可視光線更強的穿透力。上述紅外線物理學上根據波長大小細分為近紅外線（約0.8um-2.0um）、中間紅外線（約2.0um-4.0um）、遠紅外線（約4.0um-1000um）。

在此，上述紅外線在加熱烹調材料時能夠深入滲透到烹調材料而具有溫熱效果，并且比可視光線或紫外線對烹調材料發揮更強的熱作用，因此用于取暖用品或烹調用品。

然而，上述烹調用品為了在烹調盤上進行烹調，具備一個以上烹調盤，且紅外線照射方向固定或紅外線照射方向僅朝向同一水平面變更，并只能在同一烹調盤上進行烤肉或烤魚的料理。

例如，上述烹調用品作為紅外線照射方向固定而在烹調盤上烹調的結構，其公開在韓國授權專利公報第10-0833966號以及韓國授權專利公報第10-1209970號中。沿著同一水平面變更紅外線照射方向而在烹調盤烹調的結構，則公開在韓國授權實用新型公報第20-0476906號中。

因此，對于風對上述烹調盤的影響使烹調材料不能穩定安置在烹調盤上，從而烹調材料從烹調盤上蹦到使用者處，并且根據風的大小烹調相同材料的時間也不一致，從而在烹調盤上形成不良的烹調環境。從而，上述烹調用品由于在烹調盤上形成的風的影響，在烹調盤上形成不符合目的的溫度，而降低使用者的口感。

發明內容

本發明為解決已知技術中的問題而研究出，其目的在于提供一種紅外線加熱烹調裝置，其適合在室外或室內在依次層疊的烹調盤上烹調一種以上料理時，在紅外線照射烹調盤的途徑上，減少從烹調盤外部吹入烹調盤上方區域的風的影響。

本發明的紅外線加熱烹調裝置，其特征在于，包括：一第一烹調盤與第二烹調盤，其依次層疊而相互接觸；一下方本體，其位于所述第一烹調盤下方而與所述第一烹調盤接觸；一上方本體，其位于所述第二烹調盤上方而對所述第一烹調盤與所述第二烹調盤照射紅外線；一固定件，其在所述第一烹調盤與所述第二烹調盤周圍用于連接所述下方本體與所述上方本體；以及一折疊管，可拆裝于所述上方本體上并圍繞上方本體，所述第一烹調盤具有自邊緣區至中央區傾斜的凹面形狀，且所述第二烹調盤覆蓋所述第一烹調盤的所述中央區而露出所述邊緣區并與位于所述第一烹調盤的所述邊緣區的多個脫離防止件相結合，所述折疊管接觸在所述上方本體，并自所述上方本體朝向所述第一烹調盤與第二烹調盤延伸或朝向所述上方本體折疊。

所述第一烹調盤與所述第二烹調盤面向的面是有角的形狀或圓形，所述第二烹調盤則由箱子形狀、凸面形狀、凹面形狀中之一而成，各形狀具有與脫離防止件相同數量的脫離防止翼，通過所述脫離防止翼安置在所述脫離防止件上。

當所述第二烹調盤是所述凸面形狀時，在平面上看所述第二烹調盤在所述脫離防止翼周圍由一個圓板而成或兩個半圓板的組合而成。

所述第一烹調盤與所述第二烹調盤面向的面是有角的形狀或圓形，所述第二烹調盤是將由凸面形狀的半圓而成的干式烹調盤與由箱子形狀的四角形而成的濕式烹調盤組合而成的，所述第一烹調盤與所述干式烹調盤用于燒烤或炒菜的料理，所述濕式烹調盤用于湯或燉的料理，所述干式烹調盤具有脫離防止翼，其安置在所述第一烹調盤的所述多個脫離防止件中一部分上。

所述上方本體包括熱源，其自所述固定件接收外部電源，而朝所述第一烹調盤與所述第二烹調盤照射所述紅外線而加熱所述第二烹調盤，所述第一烹調盤通過在所述邊緣區照射所述紅外線，并自所述第二烹調盤朝所述邊緣區傳達熱而加熱所述邊緣區，并依次加熱被所述邊緣區圍繞的所述中央區，當所述中央區被加熱時，自所述中央區朝所述第二烹調盤放射輻射熱而再次加熱所述第二烹調盤。

所述上方本體由朝向所述第一烹調盤與所述第二烹調盤開口的容器形狀而成并包括位于所述容器形狀的開口面的熱源，所述折疊管沿著所述容器形狀的邊緣布置而圍繞所述熱源，可依次自內向外或自外向內折疊，并引導所述紅外線集中照射在所述第一烹調盤與所述第二烹調盤，且防止風從外部吹入到所述第一烹調盤與所述第二烹調盤與所述上方本體之間的區域，而最大限度減少所述熱源的熱損失。