[發明專利]一種量子點摻雜二氧化硅@硫化銅熒光光熱探針的制備方法及其應用

有效

• 申請號: 201710326198.6
• 申請日: 2017-05-10
• 公開（公告）號: CN107216881B
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 尹乃強;丁艷麗;楊同輝;吳萍;王蒙;谷旭
• 申請（專利權）人: 商丘師范學院
• 主分類號: C09K11/88
• 分類號: C09K11/88;C09K11/62;C09K11/02;G01N21/64;A61K41/00;A61K49/00;A61P35/00
• 代理公司: 北京智為時代知識產權代理事務所(普通合伙) 11498
• 代理人: 吉海蓮

1.一種量子點摻雜二氧化硅@硫化銅熒光光熱探針的制備方法，所述方法包括以下步驟：

(1)量子點摻雜的二氧化硅的制備:

a.首先配備氨水溶液：按比例混合乙二醇或乙醇與氨水得氨水溶液，所述乙二醇或乙醇與氨水的體積比是1:0.1-100；

b.將熒光量子點與二氧化硅源滴加入配備好的氨水溶液中，所述熒光量子點與二氧化硅源的摩爾比為1:1-1000，氨水與二氧化硅源的體積比為1:0.1-1000；

d.對步驟b混合溶液進行持續室溫攪拌1-4天后離心洗滌，然后用3-氨丙基三甲氧基硅氧烷或氨丙基三乙氧基硅烷進行氨基化室溫攪拌修飾24小時，最后進行離心洗滌，得氨基化的量子點摻雜的二氧化硅溶液，所述3-氨丙基三甲氧基硅氧烷或氨丙基三乙氧基硅烷與二氧化硅源的體積比為1:0.01到1:100；

(2)量子點摻雜的二氧化硅/硫化銅結構的制備：

向步驟(1)得到的氨基化的量子點摻雜的二氧化硅溶液中加入帶修飾基團的硫化銅顆粒，混合溶液室溫攪拌1-5天，然后對混合溶液進行離心洗滌，所述量子點摻雜二氧化硅顆粒與修飾基團的硫化銅顆粒的摩爾比為1:1-100；

(3)量子點摻雜二氧化硅@硫化銅熒光光熱探針的制備：

量子點摻雜的二氧化硅/硫化銅復合結構表面的修飾基團可以與生物分子進行交聯反應，得量子點摻雜二氧化硅@硫化銅熒光光熱探針；所述生物分子包括抗體、DNA片段和生物配體中的任意一種。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(1)中b與d之間，還包括加入所述擴孔劑的步驟c，所述擴孔劑與二氧化硅源的體積比為1:10-1000。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

(1)量子點摻雜的二氧化硅的制備:

a.首先配備氨水溶液：按比例混合乙二醇或乙醇與氨水得氨水溶液，所述乙二醇或乙醇與氨水的體積比是1:0.2；

b.將熒光量子點與二氧化硅源滴加入配備好的氨水溶液中，所述熒光量子點與二氧化硅源的摩爾比為1:5-50，氨水與二氧化硅源的體積比為1:0.1-1；

c.向步驟b混合溶液加入擴孔劑，所述擴孔劑與二氧化硅源的體積比1:1-20；

d.對步驟c混合溶液進行持續室溫攪拌1-4天后離心洗滌，然后用3-氨丙基三甲氧基硅氧烷或氨丙基三乙氧基硅烷進行氨基化室溫攪拌修飾24小時，最后進行離心洗滌，得氨基化的量子點摻雜的二氧化硅溶液，所述3-氨丙基三甲氧基硅氧烷或氨丙基三乙氧基硅烷與二氧化硅源的體積比為1:10-100；

(2)量子點摻雜的二氧化硅/硫化銅結構的制備：

向步驟(1)得到的氨基化的量子點摻雜的二氧化硅溶液中加入帶修飾基團的硫化銅顆粒，混合溶液室溫攪拌1-5天，然后對混合溶液進行離心洗滌，所述量子點摻雜二氧化硅顆粒與修飾基團的硫化銅顆粒的摩爾比為1:20-100；

(3)量子點摻雜二氧化硅@硫化銅熒光光熱探針的制備：

量子點摻雜的二氧化硅/硫化銅復合結構表面的修飾基團可以與生物分子進行交聯反應，得量子點摻雜二氧化硅@硫化銅熒光光熱探針；所述生物分子包括抗體、DNA片段和生物配體中的任意一種。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述熒光量子點包括CdTeS、CdSe、碳點、錳摻雜量子點、AgInS、AgZnInS中的任何一種或幾種。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述二氧化硅源包括正硅酸四乙酯、2-(3,4-環氧環己烷)乙基三甲氧基硅烷、(3-巰丙基)三甲氧基硅烷、(3-巰丙基)三乙氧基硅烷、巰丙基甲基二甲氧基硅烷中的任何一種或幾種。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(2)中所述修飾的硫化銅顆粒包括檸檬酸修飾的硫化銅、抗壞血酸修飾的硫化銅、半胱氨酸修飾的硫化銅、硫代乙醇酸修飾的硫化銅、硬脂酸修飾的硫化銅中的任意一種。