[發明專利]一種等離子體裝置

有效

• 申請號: 201710325963.2
• 申請日: 2017-05-10
• 公開（公告）號: CN108878242B
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 韋剛;蘇恒毅;楊京
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;羅瑞芝

1.一種等離子體裝置，包括反應腔室和設置于所述反應腔室中的承載裝置，其特征在于，還包括柵網和與所述柵網電連接的柵網電源，其中，所述柵網設置于所述承載裝置的上方且與所述反應腔室的腔室壁絕緣；所述柵網用于將所述反應腔室隔離為等離子體產生區和等離子體工藝區，且所述柵網的電位小于所述等離子體工藝區的電位、所述等離子體工藝區的電位小于所述等離子體產生區的電位；

所述柵網電源加載至所述柵網上的電壓低于所述等離子體產生區的等離子體電位的電壓且低于所述等離子體工藝區的等離子體電位的電壓，以調整所述等離子體參數；

所述柵網電源為直流電源，所述直流電源加載至所述柵網的電壓范圍為-50V～0V，并且：

所述直流電源的電壓固定不變，或者，

所述直流電源的電壓周期性掃描變化，且掃描周期為0.1s～10s。

2.根據權利要求1所述的等離子體裝置，其特征在于，所述柵網距所述承載裝置的承載面的豎直距離范圍為2mm～80mm。

3.根據權利要求1所述的等離子體裝置，其特征在于，所述柵網包括多個柵孔，多個所述柵孔陣列排列，相鄰所述柵孔之間形成柵梁。

4.根據權利要求3所述的等離子體裝置，其特征在于，所述柵孔的形狀為圓形或多邊形。

5.根據權利要求3所述的等離子體裝置，其特征在于，所述柵孔的孔徑的范圍為0.1mm～100mm，或者所述柵孔的長度及寬度的范圍為0.1mm～100mm，所述柵梁的尺寸范圍為0.02mm～30mm，所述柵網的厚度范圍為0.02mm～30mm。

6.根據權利要求1所述的等離子體裝置，其特征在于，所述柵網采用鋁合金、不銹鋼、碳化硅、硅或石墨導電材料中的任一種形成。

7.根據權利要求1所述的等離子體裝置，其特征在于，所述反應腔室的所述腔室壁沿腔室內部形成突沿，所述柵網置于所述突沿上；或者，所述反應腔室的底部設置有支撐部，所述柵網設置于所述支撐部的上。

8.根據權利要求1-7任一項所述的等離子體裝置，其特征在于，該所述等離子體裝置還包括等離子體產生電源，所述等離子體產生電源為射頻直流電源或微波電源。