[發(fā)明專利]一種量子點(diǎn)膜制品及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710325315.7 | 申請日: | 2017-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN107057679A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱曉華;王新輝 | 申請(專利權(quán))人: | 南通天鴻鐳射科技有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/02 | 分類號: | C09K11/02;B32B27/36;B32B27/08;H01L51/50 |
| 代理公司: | 北京一格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11316 | 代理人: | 滑春生 |
| 地址: | 226500 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 量子 制品 及其 制備 方法 | ||
1.一種量子點(diǎn)膜制品,其特征在于:包括第一阻隔膜、第二阻隔膜和量子點(diǎn)聚合物膠層,所述量子點(diǎn)聚合物膠層使所述第一阻隔膜與所述第二阻隔膜分離;所述第一阻隔膜包括自上而下依次設(shè)置的第一光學(xué)微納結(jié)構(gòu)層、第一PET薄膜和第一阻隔層,所述第二阻隔膜包括自上而下依次設(shè)置的第二阻隔層、第二PET薄膜和第二光學(xué)微納結(jié)構(gòu)層。
2.一種權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)膜制品的制備方法,其特征在于:所述制備方法包括如下步驟:
(1)制備第一阻隔膜:選取一厚度為20~30μm的PET薄膜,采用紫外成型工藝在PET薄膜的表面形成一層厚度為5~10μm的光學(xué)微納結(jié)構(gòu)層,在PET薄膜的另一表面通過涂布或真空鍍阻隔材料,形成一層厚度為5~15μm的阻隔層,進(jìn)而形成第一阻隔膜;
(2)制備第二阻隔膜:選取一厚度為20~30μm的PET薄膜,采用紫外成型工藝在PET薄膜的表面形成一層厚度為5~10μm的光學(xué)微納結(jié)構(gòu)層,在PET薄膜的另一表面通過涂布或真空鍍阻隔材料,形成一層厚度為5~15μm的阻隔層,進(jìn)而形成第二阻隔膜;
灌夾量子點(diǎn)聚合物膠:將步驟(1)的第一阻隔膜的阻隔層和步驟(2)的第二阻隔膜的阻隔(3)層相對設(shè)置,且在兩阻隔層之間通過專用紫外成型設(shè)備以5~10m/min的成型線速度及1000~1200mJ/cm2的能量灌夾量子點(diǎn)聚合物膠,形成一層厚度為20~40μm且具有0.1~1wt%量子點(diǎn)的量子點(diǎn)聚合物膠層,進(jìn)而形成量子點(diǎn)膜制品。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)膜制品的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)第一阻隔膜和步驟(2)第二阻隔膜中的阻隔材料為二氧化硅材料或氧化鋁材料中的任一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)膜制品的制備方法,其特征在于:所述步驟(3)中量子點(diǎn)的量子點(diǎn)聚合物膠層的量子點(diǎn)選用自加利福尼亞州帕洛阿爾托的納米系統(tǒng)公司供應(yīng)的直徑為1~20nm的量子點(diǎn)材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)膜制品的制備方法,其特征在于:所述步驟(3)中量子點(diǎn)的量子點(diǎn)聚合物膠層的聚合物膠為丙烯酸酯聚合物及固化引發(fā)劑的混合物、環(huán)氧樹脂聚合物及固化引發(fā)劑的混合物或丙烯酸酯聚合物、環(huán)氧樹脂聚合物及固化引發(fā)劑的混合物中的任一種。
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