[發明專利]鎂鋁合金外殼、終端及鎂鋁合金表面處理方法在審
| 申請號： | 201710322866.8 | 申請日： | 2017-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN107227459A | 公開（公告）日： | 2017-10-03 |
| 發明（設計）人： | 陳穎;董小林 | 申請（專利權）人： | 深圳天瓏無線科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C28/00 | 分類號： | C23C28/00;C25D11/04;C25D11/18;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/06;H05K5/04 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280 | 代理人： | 李慶波 |
| 地址： | 518053 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鋁合金 外殼 終端 表面 處理 方法 | ||
1.一種鎂鋁合金外殼，其特征在于，包括：
依次層疊的鎂鋁合金層、聯結層、可氧化附著層以及氧化層；
其中，所述聯結層用于聯結所述鎂鋁合金層和所述可氧化附著層，以使得二者結合力滿足預定要求。
2.根據權利要求1所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，所述聯結層包括鉻。
3.根據權利要求1所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，所述可氧化附著層包括鋁。
4.根據權利要求1所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，所述氧化層包括三氧化二鋁。
5.根據權利要求1至4任一項所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，所述氧化層包括三氧化二鋁氧化膜及嵌入其中的染色層。
6.根據權利要求1至4任一項所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，還包括形成在所述氧化層背對所述聯結層一側的反射層。
7.根據權利要求6所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，所述反射層包括鈦靶層和/或硅靶層。
8.根據權利要求1至4任一項所述的鎂鋁合金外殼，其特征在于，還包括：形成在所述氧化層背對所述聯結層一側的氟化物層，所述氟化物層位于所述鋁鎂合金外殼的最外層。
9.一種終端，其特征在于，包括如權利要求1至4任一項所述的鎂鋁合金外殼。
10.一種鎂鋁合金表面處理方法，其特征在于，包括：
在鎂鋁合金層一側形成聯結層；
在所述聯結層背對所述鎂鋁合金層一側形成可氧化附著層；
對所述可氧化附著層進行陽極氧化，以形成氧化層。
11.根據權利要求10所述的鎂鋁合金表面處理方法，其特征在于，
所述對所述可氧化附著層進行陽極氧化，以形成氧化層的步驟完成之前產生的所述氧化層背對所述聯結層的表面形成蜂窩孔，形成所述蜂窩孔工序之后對所述氧化層的所述表面進行染色，最后實施封孔工序。
12.根據權利要求10所述的鎂鋁合金表面處理方法，其特征在于，所述對所述可氧化附著層進行陽極氧化，以形成氧化層的步驟完成之后還包括:在所述氧化層背對所述聯結層一側鍍反射層。
13.根據權利要求10所述的鎂鋁合金表面處理方法，其特征在于，還包括：在所述氧化膜背對所述聯結層一側鍍氟化物層。
14.根據權利要求10所述的鎂鋁合金表面處理方法，其特征在于，所述陽極氧化工序中陽極槽的硫酸濃度為150g/L-180g/L。
15.根據權利要求10所述的鎂鋁合金表面處理方法，其特征在于，所述在鎂鋁合金層一側形成聯結層的步驟和/或所述在所述聯結層背對所述鎂鋁合金一側形成可氧化附著層的步驟中的條件為真空。
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