[發(fā)明專利]顯示裝置及彩膜基板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710322593.7 | 申請日: | 2017-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN106950747A | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬少武;王春雷;王建;周康迪 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11438 | 代理人: | 王輝,闞梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 彩膜基板 | ||
1.一種彩膜基板,其特征在于,包括:
基板;
黑矩陣,設(shè)置于所述基板靠近陣列基板的一面,所述黑矩陣上設(shè)有將所述黑矩陣截?cái)嗟沫h(huán)形的凹槽,所述凹槽與所述黑矩陣邊沿的間距為預(yù)定距離;
遮光條,設(shè)置于所述基板遠(yuǎn)離所述陣列基板的一面,所述遮光條與所述凹槽相對應(yīng),以遮蔽所述凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述遮光條的寬度大于或等于所述凹槽的寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述遮光條的材質(zhì)與所述黑矩陣的材質(zhì)相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩陣和所述遮光條的電阻值均為108Ω~109Ω。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述預(yù)定距離為150um,所述凹槽的寬度為20um。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述遮光條為一體式的環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板還包括:
接線端,與所述黑矩陣的邊沿和/或遮光條導(dǎo)電連接;
導(dǎo)電線,與所述接線端導(dǎo)電連接,所述導(dǎo)電線用于導(dǎo)出靜電。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,所述接線端的材質(zhì)為導(dǎo)電銀膠。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,所述接線端的數(shù)量為兩個(gè)。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





