[發明專利]一種電子設備的殼體及其制作方法在審
| 申請號： | 201710321191.5 | 申請日： | 2017-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN108873112A | 公開（公告）日： | 2018-11-23 |
| 發明（設計）人： | 周群飛;饒橋兵;聶崇彬 | 申請（專利權）人： | 藍思科技（長沙）有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/10 | 分類號： | G02B1/10;G02B5/00;H05K5/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 王寶筠 |
| 地址： | 410100 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電子設備 透光 殼體 選擇性吸收層 襯底下表面 光線干涉 視覺效果 入射 光學介質層 入射光線 介質層 襯底 投射 炫光 反射 制作 單調 閃爍 折射 干涉 吸收 | ||
1.一種電子設備的殼體，其特征在于，包括：
透光襯底，所述透光襯底包括上表面和下表面，所述透光襯底的下表面用于入射光線；
位于所述透光襯底上表面的選擇性吸收層，所述選擇性吸收層用于吸收部分入射光線；
位于所述選擇性吸收層上的光學介質層；
位于所述光線介質層上的光線干涉層。
2.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述選擇性吸收層包括用于反射光線的反射層和用于吸收光線的吸收層。
3.根據權利要求2所述的殼體，其特征在于，所述反射層為鋁層，所述鋁層的厚度為5nm～5000nm，包括端點值。
4.根據權利要求2所述的殼體，其特征在于，所述吸收層為硝基苯涂層。
5.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述光學介質層為二氧化硅層、氟化鎂層或冰晶石層，所述光學介質層的厚度為5nm～220nm，包括端點值。
6.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述光線干涉層為三氧化二鐵層或三氧化二鉻層，所述光線干涉層的厚度為5nm～100nm，包括端點值。
7.一種殼體的制作方法，其特征在于，包括：
提供透光襯底，所述透光襯底包括上表面和下表面，所述透光襯底的下表面用于入射光線；
在所述透光襯底的上表面形成選擇性吸收層，所述選擇性吸收層用于吸收部分入射光線；
在所述選擇性吸收層上形成光學介質層；
在所述光學介質材料層上形成光線干涉層，形成所述殼體。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述透光襯底的上表面形成選擇性吸收層，包括：
在所述透光襯底的表面形成反射層；
在所述反射層上形成吸收層。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，采用濺射工藝或蒸鍍工藝在所述透光襯底的表面形成反射層。
10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，采用表面噴涂工藝在所述反射層上形成吸收層。
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