[發明專利]一種去除鈦合金微弧氧化膜層殘留基體的方法在審
| 申請號： | 201710321162.9 | 申請日： | 2017-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN107217289A | 公開（公告）日： | 2017-09-29 |
| 發明（設計）人： | 郝千駒;杜楠;趙晴;王帥星 | 申請（專利權）人： | 南昌航空大學 |
| 主分類號： | C25D11/26 | 分類號： | C25D11/26;C25F5/00;G01N1/32 |
| 代理公司： | 南昌洪達專利事務所36111 | 代理人： | 劉凌峰 |
| 地址： | 330063 江*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 去除 鈦合金 氧化 殘留 基體 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種去除鈦合金微弧氧化膜層殘留基體的方法，其特征在于：
（1）分離前制備；
①將帶有微弧氧化后試樣的一面用砂紙打磨至鈦合金基體暴露；
②將打磨好的試樣連接上夾具并用環氧樹脂進行鑲嵌；
③用砂紙打磨掉基體一側的環氧，并使其基體暴露；
④配置電解液為質量分數1.5～10％的NaCl溶液；
⑤在溶液中加入攪拌器，使攪拌器轉速為650r/min；
⑥連接電路：將步驟④所配電解液倒入電解槽中，不銹鋼作為陰極通過導線與電源負極連接，鑲嵌打磨后的試樣作為陽極通過導線與電源正極連接，組成分離所需電路；
（2）接通電源，采用恒壓法，電壓為15V，待基體全部溶解后取出膜層，在溶解過程中檢測溶液的pH值，并用稀鹽酸調節pH值，使電解溶液保持中性；
（3）將步驟（2）獲得的微弧氧化試樣用去離子水浸泡10min后取出，烘干以備后續使用。
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