[發(fā)明專利]NiO復合薄膜、量子點發(fā)光器件及其制備和應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710316255.2 | 申請日: | 2017-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN107240624B | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊緒勇;曹璠 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/26 |
| 代理公司: | 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顧勇華 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | nio 復合 薄膜 量子 發(fā)光 器件 及其 制備 應用 | ||
1.一種M金屬摻雜NiO的復合材料薄膜,其特征在于:由M金屬摻雜NiO的M:NiO薄膜層和NiO薄膜層復合而成具有NiO成分梯度的M:NiO/NiO結構形式的復合材料薄膜,其中M金屬為Li、Mg和Cu中的任意一種金屬或合金,M金屬摻雜NiO薄膜層中M摻雜摩爾比例為1~5mol%;
所述M金屬摻雜NiO的復合材料薄膜的制備方法包括如下步驟:
a.M金屬鹽采用乙酸銅、氯化鋰和乙酸鎂中的任意一種鹽或任意幾種的混合鹽,將0.03~0.97mmol的乙酸鎳四水合物和0.03~0.97mmol的M金屬鹽混合并溶解于至少10ml無水乙醇中,邊攪拌邊滴加至少60.4μl乙醇胺作為穩(wěn)定劑,在不高于70℃溫度下攪拌至少4h,之后在室溫下攪拌至少8h,得到M金屬:NiO混合漿液,備用;
b.將1mmol乙酸鎳四水合物溶解于至少10ml無水乙醇中,邊攪拌邊滴加至少60.4μl乙醇胺作為穩(wěn)定劑,在不高于70℃溫度下攪拌至少4h,之后在室溫下攪拌至少8h,得到NiO漿液,備用;
c.用移液槍吸取120μl的在所述步驟a中制備的M:NiO漿液在襯底上,以不低于4000rpm的速度進行旋涂至少50s,在襯底上制備M:NiO涂覆液膜,并在空氣中于不低于400℃溫度下對M:NiO涂覆液膜干燥固化,然后進行退火至少20min,得到M:NiO固化膜,待M:NiO固化膜冷卻至室溫后,再進行O3-Plasma處理至少3min;
d.在所述步驟c中制備的M:NiO固化膜經過O3-Plasma處理后,再用移液槍吸取120μl在所述步驟b中制備NiO漿液,以不低于5000rpm的速度進行旋涂至少50s,在M:NiO固化膜上繼續(xù)涂覆NiO液膜,并在空氣中不低于275℃溫度下對NiO液膜干燥固化,然后進行退火至少30min,即完成M:NiO/NiO復合薄膜的制備。
2.根據(jù)權利要求1所述M金屬摻雜NiO的復合材料薄膜,其特征在于:M:NiO/NiO復合材料薄膜厚度為30~40nm。
3.根據(jù)權利要求2所述M金屬摻雜NiO的復合材料薄膜,其特征在于:當M金屬為Cu時,Cu:NiO/NiO結的復合材料薄膜的厚度為35~40nm;當M金屬為Li時,Li:NiO/NiO復合材料薄膜的厚度為30~40nm;當M金屬為Mg時,Mg:NiO/NiO復合薄膜的厚度為30~40nm。
4.一種權利要求1所述M金屬摻雜NiO的復合材料薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
a.M金屬鹽采用乙酸銅、氯化鋰和乙酸鎂中的任意一種鹽或任意幾種的混合鹽,將0.03~0.97mmol的乙酸鎳四水合物和0.03~0.97mmol的M金屬鹽混合并溶解于至少10ml無水乙醇中,邊攪拌邊滴加至少60.4μl乙醇胺作為穩(wěn)定劑,在不高于70℃溫度下攪拌至少4h,之后在室溫下攪拌至少8h,得到M金屬:NiO混合漿液,備用;
b.將1mmol乙酸鎳四水合物溶解于至少10ml無水乙醇中,邊攪拌邊滴加至少60.4μl乙醇胺作為穩(wěn)定劑,在不高于70℃溫度下攪拌至少4h,之后在室溫下攪拌至少8h,得到NiO漿液,備用;
c.用移液槍吸取120μl的在所述步驟a中制備的M:NiO漿液在襯底上,以不低于4000rpm的速度進行旋涂至少50s,在襯底上制備M:NiO涂覆液膜,并在空氣中于不低于400℃溫度下對M:NiO涂覆液膜干燥固化,然后進行退火至少20min,得到M:NiO固化膜,待M:NiO固化膜冷卻至室溫后,再進行O3-Plasma處理至少3min;
d.在所述步驟c中制備的M:NiO固化膜經過O3-Plasma處理后,再用移液槍吸取120μl在所述步驟b中制備NiO漿液,以不低于5000rpm的速度進行旋涂至少50s,在M:NiO固化膜上繼續(xù)涂覆NiO液膜,并在空氣中不低于275℃溫度下對NiO液膜干燥固化,然后進行退火至少30min,即完成M:NiO/NiO復合薄膜的制備。
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