[發(fā)明專利]開縫矩形波導(dǎo)的分層電鑄方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710315486.1
• 申請日: 2017-05-08
• 公開（公告）號: CN107177867B
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 房曉龍;曲寧松;朱嘉澄
• 申請（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類號: C25D1/10
• 分類號: C25D1/10
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務(wù)所 32237
• 代理人: 賀翔

1.一種開縫矩形波導(dǎo)的分層電鑄方法，開縫矩形波導(dǎo)的開縫結(jié)構(gòu)高度為L2, 矩形槽結(jié)構(gòu)高度為L3,其特征在于包括以下過程：

步驟1.制備芯模，芯模由下層結(jié)構(gòu)和上層結(jié)構(gòu)兩部分組成，其中下層結(jié)構(gòu)是厚度為L2的微小長方體柱陣列結(jié)構(gòu)，上層結(jié)構(gòu)是厚度是L3為長方體結(jié)構(gòu)，具體制備方法如下：

步驟1-1： 在基片（1）表面涂覆一層厚度為L1的第一層光刻膠（2）；

步驟1-2： 將步驟1-1中經(jīng)過第一次覆膜的基片（1）放置在光刻機載物臺上，用第一次曝光掩模板（3）進行第一次曝光；

步驟1-3：將步驟1-2中經(jīng)過第一次曝光后的基片（1）放入顯影液中進行第一次顯影，顯影后清洗并干燥，得到芯模下層初步結(jié)構(gòu)，其高度為L1；

步驟1-4：在步驟1-3中經(jīng)過第一次顯影后的基片（1）表面電鑄一層厚度為L1的第一層銅（4）；

步驟1-5： 對步驟1-4所得結(jié)構(gòu)表面進行精密拋磨，保證第一層銅（4）和芯模下層結(jié)構(gòu)的厚度為L2；

步驟1-6： 在步驟1-5所得結(jié)構(gòu)表面涂覆一層厚度為L3的第二層光刻膠（5）；

步驟1-7： 將步驟1-6中經(jīng)過第二次覆膜的基片（1）放置在光刻機載物臺上，用第二次曝光掩模板（6）進行第二次曝光；

步驟1-8：將步驟1-7中經(jīng)過第二次曝光后的基片（1）放入顯影液中進行第二次顯影，顯影后清洗并干燥，得到芯模上層結(jié)構(gòu)；

步驟1-9： 在步驟1-8中經(jīng)過第二次顯影的基片（1）表面蓋上掩膜（7），對芯模上層結(jié)構(gòu)上表面進行表面導(dǎo)電化處理形成一層導(dǎo)電膜；

步驟1-10：對第一層銅（4）上表面進行微量電解，去除表面的氧化膜；

步驟1-11：在步驟1-10中去除了氧化膜的第一層銅（4）基礎(chǔ)上電鑄第二層銅，第一層銅（4）和第二層銅共同組成電鑄體（9），芯模位于電鑄體（9）中；

步驟2：溶解掉多余的光刻膠，從基片（1）上取下電鑄體（9），對表面進行精密拋磨，得到所需外部尺寸；

步驟3：清洗電鑄體（9），得到的即為所需的開縫矩形波導(dǎo)（10）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開縫矩形波導(dǎo)的分層電鑄方法，其特征在于：在同一個基片上同時加工多個開縫矩形波導(dǎo)。