[發明專利]一種沖壓件用除銹劑

在審

• 申請號: 201710314062.3
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN107313053A
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發明（設計）人: 聞繼堯
• 申請（專利權）人: 安徽省東至縣東鑫沖壓件有限責任公司
• 主分類號: C23G1/00
• 分類號: C23G1/00
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350
• 代理人: 湯東鳳

技術領域

本發明涉及沖壓件加工保護領域，尤其涉及一種沖壓件用除銹劑。

背景技術

目前，已有的除銹劑成本較高，制作方法難以控制，而且部分原料不易得到或造成過分的資源浪費，設置使用后的廢水會對環境造成較嚴重的污染。

發明內容

本發明的目的在于提供一種沖壓件用除銹劑，解決上述技術缺陷。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種沖壓件用除銹劑，按照重量份有以下原料組成：烏洛托品占5-9份、膨潤土占12-18份、工業碳酸鈉占6-11份、十二烷基硫酸鈉占9-16份、四硼酸鉀占12-15份、三乙醇胺占8-13份、表面活性劑占20-28份、葡萄糖酸占100-140份、月桂醇硫酸鈉占15-19份、石油磺酸鹽占2-9份和適量的水。

上述的一種沖壓件用除銹劑，按照重量份有以下原料組成：烏洛托品占5-8份、膨潤土占12-17份、工業碳酸鈉占6-10份、十二烷基硫酸鈉占9-15份、四硼酸鉀占12-14份、三乙醇胺占8-12份、表面活性劑占20-27份、葡萄糖酸占100-139份、月桂醇硫酸鈉占15-18份、石油磺酸鹽占2-8份和適量的水。

上述的一種沖壓件用除銹劑，按照重量份有以下原料組成：烏洛托品占7份、膨潤土占15份、工業碳酸鈉占8份、十二烷基硫酸鈉占13份、四硼酸鉀占14份、三乙醇胺占10份、表面活性劑占25份、葡萄糖酸占120份、月桂醇硫酸鈉占17份、石油磺酸鹽占5份和適量的水。

上述的一種沖壓件用除銹劑，所述石油磺酸鹽是石油及其餾份為原料，用磺化劑磺化，再用堿中和而制成的產品。

上述的一種沖壓件用除銹劑，所述膨潤土是以蒙脫石為主要礦物成分的非金屬礦產。

上述的一種沖壓件用除銹劑，所述烏洛托品也稱作六亞甲基四胺、六次甲基四胺，是一個與金剛烷結構類似的多環雜環化合物，烏洛托品是白色的晶體，可由甲醛與氨反應制備，分子中含有四個相互稠合的三氮雜環己烷環。

與現有技術相比，本發明具有以下優點：

本發明具有除銹效果明顯、成本低廉和除銹見效快等優點，從而提高了產品的市場占有率與企業的市場競爭力。

具體實施方式

實施例1

一種沖壓件用除銹劑，按照重量份有以下原料組成：烏洛托品占5份、膨潤土占12份、工業碳酸鈉占6份、十二烷基硫酸鈉占9份、四硼酸鉀占12份、三乙醇胺占8份、表面活性劑占20份、葡萄糖酸占100份、月桂醇硫酸鈉占15份、石油磺酸鹽占2份和適量的水。

所述石油磺酸鹽是石油及其餾份為原料，用磺化劑磺化，再用堿中和而制成的產品。

所述膨潤土是以蒙脫石為主要礦物成分的非金屬礦產。

所述烏洛托品也稱作六亞甲基四胺、六次甲基四胺，是一個與金剛烷結構類似的多環雜環化合物，烏洛托品是白色的晶體，可由甲醛與氨反應制備，分子中含有四個相互稠合的三氮雜環己烷環。

實施例2

一種沖壓件用除銹劑，按照重量份有以下原料組成：烏洛托品占9份、膨潤土占18份、工業碳酸鈉占11份、十二烷基硫酸鈉占16份、四硼酸鉀占15份、三乙醇胺占13份、表面活性劑占28份、葡萄糖酸占140份、月桂醇硫酸鈉占19份、石油磺酸鹽占9份和適量的水。

所述石油磺酸鹽是石油及其餾份為原料，用磺化劑磺化，再用堿中和而制成的產品。

所述膨潤土是以蒙脫石為主要礦物成分的非金屬礦產。

所述烏洛托品也稱作六亞甲基四胺、六次甲基四胺，是一個與金剛烷結構類似的多環雜環化合物，烏洛托品是白色的晶體，可由甲醛與氨反應制備，分子中含有四個相互稠合的三氮雜環己烷環。

實施例3

上述的一種沖壓件用除銹劑，按照重量份有以下原料組成：烏洛托品占7份、膨潤土占15份、工業碳酸鈉占8份、十二烷基硫酸鈉占13份、四硼酸鉀占14份、三乙醇胺占10份、表面活性劑占25份、葡萄糖酸占120份、月桂醇硫酸鈉占17份、石油磺酸鹽占5份和適量的水。

所述石油磺酸鹽是石油及其餾份為原料，用磺化劑磺化，再用堿中和而制成的產品。

所述膨潤土是以蒙脫石為主要礦物成分的非金屬礦產。

所述烏洛托品也稱作六亞甲基四胺、六次甲基四胺，是一個與金剛烷結構類似的多環雜環化合物，烏洛托品是白色的晶體，可由甲醛與氨反應制備，分子中含有四個相互稠合的三氮雜環己烷環。

本發明具有除銹效果明顯、成本低廉和除銹見效快等優點，從而提高了產品的市場占有率與企業的市場競爭力。

以上所述是本發明的實施例，故凡依本發明申請范圍所述的構造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本發明專利申請范圍內。