[發明專利]一種雙穩態電潤濕基板結構及顯示裝置

在審

• 申請號: 201710313376.1
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN107092088A
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 吳昊;周國富
• 申請（專利權）人: 華南師范大學;深圳市國華光電科技有限公司;深圳市國華光電研究院
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205
• 代理人: 唐致明

技術領域

本發明涉及電潤濕顯示領域，尤其是一種雙穩態電潤濕基板結構及顯示裝置。

背景技術

電潤濕顯示器是通過改變向顯示單元上施加的電壓，進而改變顯示器件內部的功能疏水材料的親疏水性能，從而驅動期間內流體的相對運動，達到顯示的效果。現有電潤濕顯示裝置中，當加電時，油墨縮于一角，裝置顯示為基板和第二流體顏色(水或鹽溶液)；當電壓撤掉時，油墨鋪展開，裝置顯示第一流體的顏色(油墨)。油墨縮于一角的狀態，像素的上下電極必須有電壓施加，所以此系統是單穩態顯示系統。

由此出現了如專利申請號為201610494895.8的專利申請，其中，該專利提供一種帶弧形間隔條帶的電潤濕基板結構，可實現撤除電壓后，像素保持穩態特性，但其隔離條帶是由等離子刻蝕對疏水材料進行局域化改性，或者磁控濺射親水材料的工藝制成。其缺點在于：

1、對于像素格尺度的局域化表面改性或者局域化濺射親水材料存在困難，難以實現；

2、親水條帶高度低(或無高度)，當油墨被驅動于像素格一角的區域時，高度相對較高，低高度(或無高度)的親水條帶難以將油墨局域于較小區域；

3.局域化對疏水材料進行改性，其親水程度受到限制，等離子體刻蝕難以將疏水材料改性至所需要的疏水程度。

美國辛辛那提大學提出一種雙層立體通道電潤濕顯示結構，雖然可以克服上述專利文件所存在的缺點，但其制造工藝非常復雜，生產困難，難以實現大規模生產。(S.Yang,K.Zhou,E.Kreit and J.Heikenfeld,Applied Physics Letters,2010,97,143501)

發明內容

為了解決上述技術問題，本發明的目的是提供一種雙穩態效果好的雙穩態電潤濕基板結構及顯示裝置。

本發明所采用的技術方案是：一種雙穩態電潤濕基板結構，包括下基板，所述下基板包括基板和依次設置于所述基板上的導電層、疏水絕緣層和圍成像素格陣列的像素墻結構，所述各個像素格的導電層包括第一電極區、第二電極區和設置于兩者之間的無電極區，所述疏水絕緣層上對應各個無電極區的位置設有不連續親水圍堰，將每個像素格分成對應第一電極區、第二電極區的第一區域和第二區域。

進一步地，所述不連續親水圍堰設有不少于一個的間隙。

進一步地，所述無電極區的邊緣形狀包括弧形、曲線形、直線形或折線形。

進一步地，在豎直方向上，所述不連續親水圍堰與無電極區的重合面積至少為無電極區的80％。

進一步地，所述每個第一電極區的面積不大于每個像素格面積的三分之一。

進一步地，所述親水圍堰的材料與像素墻的材料相同。

進一步地，所述親水圍堰的高度為200nm～50um。

進一步地，所述親水圍堰的寬度為1um～50um。

進一步地，所述間隙的寬度小于30um。

本發明所采用的另一技術方案是：一種雙穩態電潤濕顯示裝置，包括所述的雙穩態電潤濕基板結構。

本發明的有益效果是：本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構及顯示裝置，通過第一電極區、第二電極區和設置在兩者之間的無電極區以及位置對應無電極區的不連續親水圍堰，既保證了在電場作用時，油墨可在兩個電極區之間運動，又保證了在無電場作用時，油墨由于圍堰的親水性能和油墨表面張力的作用，使得油墨難以通過不連續親水圍堰流到另一電極區域，被局域化在某一電極區域，實現像素在開和關兩種狀態都不需要持續的外加電場，僅需要在兩種狀態切換時施加電場，克服了背景技術中的專利申請文件201610494895.8的不足，雙穩態效果好。

附圖說明

下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步說明：

圖1是本發明中一種雙穩態電潤濕顯示裝置的結構框圖；

圖2是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的截面圖；

圖3是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的一具體實施例俯視圖；

圖4是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的另一具體實施例俯視圖；

圖5是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的像素開啟狀態截面圖；

圖6是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的像素開啟狀態俯視圖；

圖7是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的像素關閉狀態截面圖；

圖8是本發明中一種雙穩態電潤濕基板結構的像素關閉狀態俯視圖。

具體實施方式