[發(fā)明專利]預(yù)防外露的耳廓支架的建模方法、制造方法及耳廓支架

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710312158.6
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN107137167B
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鐘靜;黃文華;楊承鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 南方醫(yī)科大學
• 主分類號: A61F2/50
• 分類號: A61F2/50
• 代理公司: 北京市誠輝律師事務(wù)所 11430
• 代理人: 郎堅

1.一種預(yù)防外露的耳廓支架建模方法，其特征在于：具體包括以下步驟：

步驟1、收集已雕刻且未被植入皮下的耳廓支架的輪廓特征數(shù)據(jù)；

步驟2、對步驟1中獲取的所述輪廓特征數(shù)據(jù)進行網(wǎng)格分化；

步驟3、將步驟2中得到的網(wǎng)格分化后的數(shù)據(jù)結(jié)合支架材料特性參數(shù)以及皮膚特性參數(shù)進行有限元應(yīng)力分析；

步驟4、根據(jù)步驟3中所述有限元應(yīng)力分析的結(jié)果，對搭建所述支架后的第3天、第3個月、第6個月時該支架的應(yīng)力集中部位進行模擬分析，確定易發(fā)生破潰的部位；

步驟5、與臨床病例資料數(shù)據(jù)對比，將耳廓支架結(jié)構(gòu)上對應(yīng)的易發(fā)生破潰的部位進行調(diào)整和雕刻，預(yù)防所述耳廓支架因應(yīng)力集中外露。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟1中所述的輪廓特征數(shù)據(jù)為通過激光掃描儀獲取的點云數(shù)據(jù)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟2中進行的所述網(wǎng)格分化采用0.3mm～0.5mm的網(wǎng)格。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟2中進行的所述網(wǎng)格分化采用HyperMesh軟件執(zhí)行。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟3中的所述支架材料特性參數(shù)包括密度、彈性模量、泊松比，所述皮膚特性參數(shù)包括密度、彈性模量。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟3中進行的所述有限元應(yīng)力分析采用Abaqus軟件執(zhí)行。

7.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：在所述步驟4中，進行模擬負壓引流以驗證所確定的易發(fā)生破潰部位的準確性，施加負壓范圍為0.02MPA—0.0MPA。

8.一種預(yù)防外露的耳廓支架制造方法，其特征在于：其基于如權(quán)利要求1-7任一項所述的一種預(yù)防外露的耳廓支架建模方法進行雕刻。

9.一種耳廓支架，其特征在于：其基于如權(quán)利要求1-7任一項所述的一種預(yù)防外露的耳廓支架建模方法制造。