[發明專利]一種透明阻氧阻水薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201710311990.4
• 申請日: 2017-05-05
• 公開（公告）號: CN107022099B
• 公開（公告）日: 2019-12-06
• 發明（設計）人: 韓景賓;王嘉杰;許曉芝;衛敏
• 申請（專利權）人: 北京化工大學
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C08L67/02;C08L23/06;C08L75/04
• 代理公司: 11569 北京高沃律師事務所
• 代理人: 王加貴<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種透明阻氧阻水薄膜，包括薄膜基底和附著在所述薄膜基底上的阻氧阻水層，所述阻氧阻水層包括交替層疊的疏水改性水滑石納米片層和疏水性聚合物層；所述薄膜基底與阻氧阻水層中的疏水改性水滑石納米片層相接；所述薄膜的最外層為疏水性聚合物層；所述疏水改性水滑石納米片為平行于薄膜基底的有序取向結構；所述阻氧阻水層的總厚度為15～20μm；所述疏水改性水滑石納米片層由吐溫80對水滑石納米片改性得到；所述疏水改性水滑石納米片的長徑比為10～42.94；所述疏水性聚合物層的材質為聚偏氟乙烯、聚丙烯或聚苯乙烯；所述疏水改性水滑石納米片層的厚度為50～200nm；所述疏水性聚合物層的厚度為1000～2500nm。

2.如權利要求1所述的透明阻氧阻水薄膜，其特征在于，所述薄膜基底的材質為聚乙烯、聚丙烯或聚對苯二甲酸乙二醇酯。

3.權利要求1～2任意一項所述透明阻氧阻水薄膜的制備方法，包括以下步驟：

將水滑石納米片與吐溫80水溶液混合，室溫攪拌2～5h，進行疏水改性，得到疏水改性水滑石納米片；

將所述疏水改性水滑石納米片分散于水中，得到疏水改性水滑石納米片分散液；

將所述疏水改性水滑石納米片分散液和疏水性聚合物水分散液交替旋涂于薄膜基底表面，得到透明阻氧阻水薄膜。

4.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述水滑石納米片與吐溫80的質量比為25～40:1。

5.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述疏水改性水滑石納米片分散液的質量濃度為0.3～0.8wt.％。

6.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述疏水性聚合物水分散液的質量濃度為2～5wt.％。