[發明專利]一種線圈、介質筒和等離子體腔室

有效

• 申請號: 201710308023.2
• 申請日: 2017-05-04
• 公開（公告）號: CN108575042B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 肖德志;琚里
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46;H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;羅瑞芝

1.一種等離子體腔室，所述腔室包括腔體和主等離子體產生裝置；所述主等離子體產生裝置包括：射頻電源、匹配器和主線圈I，所述射頻電源通過所述匹配器與所述主線圈I電連接,以產生等離子體；其特征在于，

所述等離子體腔室還包括設置在所述腔體側壁的輔助等離子體產生裝置；其中，

所述輔助等離子體產生裝置包括激勵電源和線圈II；所述線圈II用于產生等離子體，所述線圈II包括螺線管和設置在所述螺線管上的子線圈；

所述子線圈的軸線與所述螺線管的軸線夾角大于0°且小于180°，使所述子線圈產生的磁場與所述螺線管產生的磁場具有不同的方向，以增加所述螺線管內的磁力線的水平分量，從而約束所述等離子體；其中，

所述子線圈包括多個，多個所述子線圈環繞螺線管且均勻分布于所述螺線管上；

所述激勵電源和所述線圈II電連接，用于向所述線圈II提供功率信號以在所述線圈II內產生磁場；

所述等離子體腔室還包括介質筒，所述介質筒設置于所述腔室側壁內側，并與腔室側壁具有一定間距；其中，

所述線圈II設置于所述腔體側壁和所述介質筒之間，所述介質筒為圓筒狀，所述線圈II繞制于所述介質筒上；

所述介質筒包括筒體，在所述筒體的外壁上還設置有多個凸起的側肢，所述側肢的軸線與所述筒體的軸線夾角大于0°且小于180°，所述筒體和所述側肢均用于繞制所述線圈II，以使得繞制在所述筒體上的所述線圈II中產生的磁場的磁場方向沿所述筒體的軸線方向；以及使得繞制在所述側肢上的所述線圈II中產生的磁場的磁場方向沿所述側肢的軸線方向；其中,

所述螺線管繞制于所述介質筒的筒體上，所述子線圈繞制于所述介質筒的側肢上，所述側肢作為所述線圈II的子磁芯。

2.根據權利要求1所述的等離子體腔室，其特征在于，所述筒體和所述側肢的材質相同，所述筒體和所述側肢的材質為鋁、陶瓷或銅。

3.根據權利要求1所述的等離子體腔室，其特征在于，所述子線圈的軸線與所述螺線管的軸線垂直。

4.根據權利要求1所述的等離子體腔室，其特征在于，所述子線圈的繞制形狀呈曲線狀。

5.根據權利要求1所述的等離子體腔室，其特征在于，所述子線圈的繞制形狀包括圓環狀和半圓環狀。

6.根據權利要求1所述的等離子體腔室，其特征在于，還包括多個子磁芯，每個所述子線圈對應繞制在一個所述子磁芯上。

7.根據權利要求6所述的等離子體腔室，其特征在于，所述子磁芯的材質包括鋁、陶瓷或銅。

8.根據權利要求6所述的等離子體腔室，其特征在于，所述子線圈的繞制形狀為圓環狀，所述子線圈對應繞所述子磁芯一周。

9.根據權利要求6所述的等離子體腔室，其特征在于，所述子線圈的繞制形狀為半圓環狀，同一圈的所述子線圈位于其對應所述子磁芯的同側；

相鄰兩圈的所述子線圈位于其對應所述子磁芯的同側；或者，相鄰兩圈的所述子線圈位于其對應所述子磁芯的不同側。