[發明專利]一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統

在審

• 申請號: 201710307424.6
• 申請日: 2017-05-04
• 公開（公告）號: CN107267729A
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: 高貴斌
• 申請（專利權）人: 北京中科科美科技股份有限公司
• 主分類號: C21D9/00
• 分類號: C21D9/00;C21D11/00;C21D1/773
• 代理公司: 北京紐樂康知識產權代理事務所(普通合伙)11210
• 代理人: 徐娟

技術領域

本發明涉及真空爐技術領域，具體來說，涉及一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統。

背景技術

真空加熱爐的崛起和迅猛發展，一方面源于工業技術發展的需要，另一方面是由于真空熱處理具有其他熱處理不可比擬的一系列突出優點：防止被處理的工件表面氧化、脫碳并有還原除銹作用，省去表面磨削加工工序，從而節約原材料的消耗，節省加工時間；真空脫氣作用，使材料表面純度提高，提高材料的疲勞強度、塑性和韌性，提高耐腐蝕性；脫脂作用，除去殘留油脂，提高產品質量；處理工件無氫脆危險，防止鈦和難熔金屬表面脆化；淬火變形小；與可控氣氛爐相比，不需優質可燃氣體氣源，蓄熱損失小，熱效率高，節省能源，可實現快速升溫和快速降溫；真空熱處理工藝的穩定性和重復性好；操作安全，自動化程度高，工作環境好，無污染無公害。

真空爐的發熱元件一般呈圓形布置，真空加熱相對普通爐來說，其傳熱方式只有輻射，沒有傳導和對流，真空狀態下工件升溫緩慢，特別是低于600℃以下加熱時，加熱更為緩慢，工件溫度相對控溫熱電偶的溫度有一定的滯后現象。

針對相關技術中的問題，目前尚未提出有效的解決方案。

發明內容

針對相關技術中的上述技術問題，本發明提出一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統，能夠解決真空狀態下工件升溫緩慢，工件溫度相對控溫熱電偶的溫度有一定的滯后現象。

為實現上述技術目的，本發明的技術方案是這樣實現的：一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統，包括鐘罩，其特征在于，所述鐘罩的內壁的頂端通過第一螺栓連接有若干頂部加熱器，所述頂部加熱器的中心通過第二螺栓連接有中心加熱器，所述鐘罩側壁內側通過第三螺栓連接有若干第一側壁加熱器，所述鐘罩底部側壁通過第四螺栓連接有若干第二側壁加熱器，所述頂部加熱器、中心加熱器、第一側壁加熱器和第二側壁加熱器分別集成K型熱電偶，所述K型熱電偶通過補償導線與PID溫控儀一端相連接，所述PID溫控儀另一端通過固態繼電器分別與頂部加熱器、中心加熱器、第一側壁加熱器和第二側壁加熱器相連接。

進一步地，所述頂部加熱器、中心加熱器、第一側壁加熱器和第二側壁加熱器分別包括加熱絲固定板，所述加熱絲固定板上焊接有固定條，所述固定條的凹槽內嵌入有鎧裝加熱絲，所述鎧裝加熱絲與K型熱電偶相連接。

進一步地，所述頂部加熱器、第一側壁加熱器和第二側壁加熱器的加熱絲固定板上設有雙層隔熱屏。

進一步地，所述鎧裝加熱絲的外管材質為不銹鋼，所述鎧裝加熱絲的填充物為氧化鎂。

進一步地，所述鐘罩上設有若干個觀察窗。

進一步地，所述鐘罩外圍安裝有冷卻水道。

本發明的有益效果：通過PID溫控儀控溫，溫度控制準確，從而達到較高的溫度均勻性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的鐘罩的結構示意圖；

圖2是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的頂部加熱器的結構示意圖；

圖3是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的中心加熱器的結構示意圖；

圖4是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的第一側壁加熱器和第二側壁加熱器的結構示意圖；

圖5是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的電路圖；

圖6是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的控溫原理圖；

圖7是根據本發明實施例所述的一種多工位真空爐均勻加熱及溫控系統的均勻性測定原理圖。

圖中：

1、頂部加熱器；2、雙層隔熱屏；3、第一側壁加熱器；4、觀察窗；5、第二側壁加熱器；6、加熱絲固定板；7、冷卻水道；8、鐘罩；9、中心加熱器；10、鎧裝加熱絲；11、K型熱電偶；12、PID溫控儀；13、固態繼電器。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。