[發明專利]鍍有抗反射膜的衍射光學元件的優化設計方法有效
| 申請號： | 201710306498.8 | 申請日： | 2017-05-04 |
| 公開（公告）號： | CN106940476B | 公開（公告）日： | 2019-05-17 |
| 發明（設計）人： | 崔慶豐;毛珊;樸明旭;趙春竹 | 申請（專利權）人： | 長春理工大學 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標代理事務所(普通合伙) 22210 | 代理人： | 陶尊新 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍有抗 反射 衍射 光學 元件 優化 設計 方法 | ||
1.一種鍍有抗反射膜的衍射光學元件的優化設計方法，首先，設計衍射光學元件的表面衍射微結構高度；其特征在于，其次，計算由衍射光學元件表面抗反射膜膜系各膜層材料和厚度引入的附加位相；最后，用所述表面衍射微結構高度減去與所述抗反射膜附加位相相當的高度，得到衍射光學元件本體表面衍射微結構的加工高度；
其中，設定一個等高層，所述等高層的位相與抗反射膜的附加位相相同，將等高層高度h作為與所述抗反射膜附加位相相當的高度：
式中：φcoating為由衍射光學元件表面抗反射膜膜系各膜層材料和厚度引入的附加位相，λ設計為設計波長，n(λ設計)為衍射光學元件本體材料對設計波長的折射率，n0(λ設計)為周圍環境介質對設計波長的折射率。
2.根據權利要求1所述的鍍有抗反射膜的衍射光學元件的優化設計方法，其特征在于，衍射光學元件的表面衍射微結構高度H由下式確定：
式中：λ設計為設計波長，n(λ設計)為衍射光學元件本體材料對設計波長的折射率，n0(λ設計)為周圍環境介質對設計波長的折射率。
3.根據權利要求1所述的鍍有抗反射膜的衍射光學元件的優化設計方法，其特征在于，由衍射光學元件表面抗反射膜膜系各膜層材料和厚度引入的附加位相φcoating由下式確定：
式中：λ設計為設計波長，ΔL為抗反射膜產生的附加光程差，ni為抗反射膜膜系各膜層材料折射率，li為抗反射膜膜系各膜層厚度，i＝1,2,…,k。
4.根據權利要求1所述的鍍有抗反射膜的衍射光學元件的優化設計方法，其特征在于，由下式確定衍射光學元件本體表面衍射微結構的加工高度H'：
H'＝H-h，
式中：H為衍射光學元件的表面衍射微結構高度，h為等高層高度。
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