[發(fā)明專利]一種有機電致發(fā)光顯示面板、其制作方法及顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710305329.2
• 申請日: 2017-05-03
• 公開（公告）號: CN107425134B
• 公開（公告）日: 2019-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅程遠
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種有機電致發(fā)光顯示面板，其特征在于，包括：襯底基板，設(shè)置于所述襯底基板上的顯示器件，覆蓋所述顯示器件的應(yīng)力釋放層，以及覆蓋所述應(yīng)力釋放層的阻隔膜；其中，

所述阻隔膜包括：至少一層無機阻隔層和至少一層有機阻隔層；其中，

所述無機阻隔層和所述有機阻隔層交替設(shè)置，且與所述應(yīng)力釋放層連接的為所述無機阻隔層；

至少在與所述應(yīng)力釋放層連接的所述無機阻隔層中，背離所述應(yīng)力釋放層的一側(cè)設(shè)有凹槽結(jié)構(gòu)，且所述凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi)填充干燥劑；

所述凹槽結(jié)構(gòu)為多個相互平行的條狀凹槽；

各所述無機阻隔層中的條狀凹槽在所述襯底基板上的正投影相互錯開。

2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述條狀凹槽的深度大于等于所述無機阻隔層厚度的80％；

各所述條狀凹槽的寬度為0.5mm-1mm，相鄰所述條狀凹槽的距離為200mm-400mm。

3.如權(quán)利要求1-2任一項所述的顯示面板，其特征在于，所述干燥劑為液體干燥劑。

4.一種如權(quán)利要求1-3任一項所述的有機電致發(fā)光顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上依次形成顯示器件的各膜層以及覆蓋所述顯示器件的應(yīng)力釋放層；

形成覆蓋所述應(yīng)力釋放層的阻隔膜；其中，

形成所述阻隔膜至少包括：

形成覆蓋所述應(yīng)力釋放層且在背離所述應(yīng)力釋放層的一側(cè)具有凹槽結(jié)構(gòu)的無機阻隔層；所述凹槽結(jié)構(gòu)為多個相互平行的條狀凹槽；各所述無機阻隔層中的條狀凹槽在所述襯底基板上的正投影相互錯開；

在各所述凹槽結(jié)構(gòu)內(nèi)填充干燥劑；

形成覆蓋所述無機阻隔層的有機阻隔層。

5.如權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述在襯底基板上依次形成顯示器件的各膜層以及覆蓋所述顯示器件的應(yīng)力釋放層，包括：

在所述襯底基板上形成所述顯示器件的各膜層；

采用蒸鍍或噴涂的方式在所述襯底基板上形成覆蓋所述顯示器件且厚度為50nm-500nm的應(yīng)力釋放層。

6.如權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述形成覆蓋所述應(yīng)力釋放層且在背離所述應(yīng)力釋放層的一側(cè)具有凹槽結(jié)構(gòu)的無機阻隔層，包括：

采用化學(xué)氣相沉積、濺射或原子力沉積的方式形成覆蓋所述應(yīng)力釋放層且在背離所述應(yīng)力釋放層的一側(cè)具有凹槽結(jié)構(gòu)的厚度為0.05μm-2.5μm的無機阻隔層。

7.如權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述形成覆蓋所述無機阻隔層的有機阻隔層，包括：

采用噴涂、噴墨打印或印刷的方式形成覆蓋所述無機阻隔層的厚度為0.5μm-5μm有機阻隔層。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括：如權(quán)利要求1-3任一項所述的有機電致發(fā)光顯示面板。