[發明專利]一種電子型的法布里-珀羅干涉器件及制備方法有效
| 申請號: | 201710302311.7 | 申請日: | 2017-05-02 |
| 公開(公告)號: | CN108807519B | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發明(設計)人: | 朱玉瑩;劉廣同 | 申請(專利權)人: | 中國科學院物理研究所 |
| 主分類號: | H01L29/66 | 分類號: | H01L29/66 |
| 代理公司: | 北京智匯東方知識產權代理事務所(普通合伙) 11391 | 代理人: | 范曉斌;康正德 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子 法布里 干涉 器件 制備 方法 | ||
1.一種電子型的法布里-珀羅干涉器件,包括用于探測邊緣態的干涉信號的測量單元以及獨立設置于樣品的預設區域處的表征單元,所述表征單元用于表征樣品的特性,其中,所述測量單元包括:
樣品,為異質結材料,在預設區域內具有平整的上表面,所述樣品具有導電層;
第一導電通道,通過刻蝕所述樣品形成在所述預設區域內并具有預定的霍爾條形狀,與所述樣品為一體式結構,用于導通電流,所述第一導電通道的圖案為長方形;
多個歐姆接觸,與所述樣品相接觸,分布于所述第一導電通道的周圍,用于作為導電電極,所述多個歐姆接觸分為第一組歐姆接觸和第二組歐姆接觸,所述第一組歐姆接觸中包含四個所述歐姆接觸,為第一至第四歐姆接觸,分別連接于所述第一導電通道的長方形圖案的四個頂點并與所述導電層相接觸,所述第二組歐姆接觸中包含六個所述歐姆接觸,為第五至第十歐姆接觸,對稱分布于所述第一導電通道的長方形圖案中相對的兩側且不與所述導電通道相連;和
三對頂門結構,位于所述第一導電通道上表面中心處,分別與所述第五至第十歐姆接觸相連,是形成干涉器件的核心部分,用于產生周期性的干涉振蕩,改變所述樣品的特性;
所述表征單元包括:
第二導電通道,與所述樣品為一體式結構,通過刻蝕所述樣品制成,獨立于所述第一導電通道并具有預定的霍爾條形狀;
第三組歐姆接觸,位于所述樣品的預設區域內,與所述第二導電通道相連,用于作為導電電極。
2.根據權利要求1所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,
所述第二導電通道呈土字形,具有五個引腳,所述第三組歐姆接觸包括五個所述歐姆接觸,分別與所述第二導電通道的五個引腳相連。
3.根據權利要求1或2所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,所述第一組歐姆接觸用于作為源極、漏極和測量電極。
4.根據權利要求3所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,每對頂門結構包括一對頂門和與所述頂門對應連接的內部電極,所述每對頂門結構的內部電極分別對應連接于所述第二組歐姆接觸。
5.根據權利要求4所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,所述三對所述頂門依次排列,分別為第一頂門、第二頂門和第三頂門,其中,所述第一頂門和所述第三頂門為量子點接觸,所述第二頂門為邊門,三對所述頂門形成中心干涉區域。
6.根據權利要求5所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,
通過調節所述邊門改變所述中心區域的面積。
7.根據權利要求1所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,還包括用于電子束曝光的定位和調節聚焦像散的對準標記。
8.根據權利要求7所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,
所述對準標記數量為四個,分別位于所述第一導電通道的四個頂點。
9.根據權利要求7所述的法布里-珀羅干涉器件,其特征在于,
所述對準標記為十字結構,與所述第一導電通道等高。
10.一種用于制備權利要求1-9中任一項所述的法布里-珀羅干涉器件的制備方法,包括:
S1,采用紫外曝光技術在樣品上制備所述歐姆接觸,得到第一樣品;
S2,采用紫外曝光技術在所述第一樣品上制備所述第一導電通道,得到第二樣品;
S3,采用電子束曝光技術在所述第一導電通道的上表面制備頂門結構。
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