[發明專利]天線和利用天線的基板處理裝置

在審

• 申請號: 201710301673.4
• 申請日: 2017-05-02
• 公開（公告）號: CN107342452A
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發明（設計）人: 哈魯瓊·米利克揚;李貞煥;安宗奐;南信祐
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01J37/32
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所11410
• 代理人: 石寶忠

1.一種天線，所述天線沿著具有預定曲率的虛擬基線延伸，并且包括所述基線與交點之間的距離根據所述基線上的位置而變化的部分，其中所述交點為所述天線與垂直于所述基線的豎直線之間的交點。

2.根據權利要求1所述的天線，其中，所述基線包括曲率為0的直線或曲率為正數的曲線。

3.根據權利要求1所述的天線，其中，所述基線包括曲率根據所述基線上的位置而變化的部分。

4.根據權利要求1所述的天線，其中，所述基線上的位置和所述距離分別是周期函數的自變量和因變量。

5.根據權利要求4所述的天線，其中，所述基線上的位置和所述距離分別是正弦函數的自變量和因變量。

6.根據權利要求4所述的天線，其中，所述基線上的位置和所述距離分別是所述天線的一些部分中的多項式函數或線性函數的自變量和因變量。

7.根據權利要求4所述的天線，其中，所述距離的最大值等于或小于具有最大距離的所述基線上的點之間的長度的最小值。

8.根據權利要求1所述的天線，其中，所述天線還包括所述距離恒定的部分。

9.根據權利要求8所述的天線，其中，所述天線可替選地包括所述距離變化的部分和所述距離恒定的部分。

10.根據權利要求8所述的天線，其中，所述距離變化的部分的長度比所述距離恒定的部分更長或與其相同。

11.根據權利要求1所述的天線，其中，所述天線包括延伸360°/n方位角的n個繞組線，n是自然數。

12.根據權利要求11所述的天線，其中，n是偶數并且所述n個繞組線被布置成使得所述天線對稱。

13.根據權利要求1所述的天線，其中，所述天線包括延伸360°×N方位角的M個繞組線，N是大于0的實數，且M是自然數。

14.根據權利要求13所述的天線，其中，M是偶數，并且所述M個繞組線被布置成使得所述天線對稱。

15.一種基板處理裝置，包括：

腔室，用于在其中提供基板處理空間；

基板支撐組件，用于支撐所述基板并且置于所述腔室內；

氣體供給單元，用于在所述腔室內供給氣體；和

等離子體產生單元，用于使所述氣體處于等離子體狀態，

其中，所述等離子體產生單元包括：

RF電源，用于提供RF信號；和

天線，所述天線通過被供給RF信號而從供給在腔室中的所述氣體產生等離子體，沿著具有預定曲率的虛擬基線延伸，并且包括所述基線點與垂直于所述基線的豎直線上的天線點之間的距離根據所述基線上的位置而變化的部分。

16.根據權利要求15所述的基板處理裝置，其中，所述基線包括曲率為0的直線或曲率為正數的曲線。

17.根據權利要求15所述的基板處理裝置，其中，所述基線包括曲率根據所述基線上的位置而變化的部分。

18.根據權利要求15所述的基板處理裝置，其中，所述基線上的位置和所述距離分別是周期函數的自變量和因變量。

19.根據權利要求18所述的基板處理裝置，其中，所述基線上的位置和所述距離分別是正弦函數的自變量和因變量。

20.根據權利要求18所述的基板處理裝置，其中，所述基線上的位置和所述距離分別是所述天線的一些部分中的多項式函數或線性函數的自變量和因變量。

21.根據權利要求18所述的基板處理裝置，其中，所述距離的最大值等于或小于具有所述距離的最大值的所述基線上的點之間的長度的最小值。

22.根據權利要求15所述的基板處理裝置，其中，所述天線還包括所述距離恒定的部分。

23.根據權利要求22所述的基板處理裝置，其中，所述天線可替選地包括所述距離變化的部分和所述距離恒定的部分。

24.根據權利要求22所述的基板處理裝置，其中，所述距離變化的部分的長度比所述距離恒定的部分長或與其相同。