[發明專利]一種用于實現無線充電平面恒壓充電的發射線圈

有效

• 申請號: 201710300813.6
• 申請日: 2017-05-02
• 公開（公告）號: CN107146700B
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發明（設計）人: 劉明海;王圣明;胡朝陽;榮燦燦;路聰慧
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: H01F38/14
• 分類號: H01F38/14;H01F27/28;H02J50/10
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 張建偉;曹葆青

1.一種用于實現無線充電平面恒壓充電的發射線圈，其特征在于，其為同一平面的多層方形螺旋狀的發射線圈，其中：

所述發射線圈為單根金屬導線繞成；在同一平面內，導線按正方形軌跡，繞制成多層線圈；同一層線圈是多匝結構，同一層內各匝導線繞制方向相同；相鄰兩層線圈的繞制方向相反；發射線圈的層數n大于或等于3；

所用金屬線的線徑為0.5mm～0.02a；其中，a為第一層線圈的最外匝的最大邊長；所述第一層線圈指最外層線圈；

所述第一層線圈匝數為1～20，層內線圈的匝間距為0～0.02a；其中，繞制方向相同的相鄰線圈，不論匝數多少，均為一層；

其第二層線圈繞制方向與第一層繞制方向相反，第二層的最外匝的線圈邊長為0.5a～0.9a，層內導線之間的匝間距為0～0.05a；

其第三層與第一層線圈繞制方向相同，第三層層內最外匝線圈邊長為0.3a～0.4a，線圈匝數為1～10，第三層層內導線之間的匝間距為0～0.05a；

當其繞制線圈的層數大于3時，之后繞制的線圈層的匝數為其外一層匝數的0.25倍；當次層上一層的匝數x不能被整除時，選取0.5x～0.25x之間的匝數；

當其繞制線圈的匝數大于3時，之后繞制的層最外匝線圈的邊長為其外一層最外線圈邊長的0.8倍，且層內線圈導線之間的匝間距為0～0.05a；

各線圈奇數層之間的繞制方向相同，偶數層之間繞制方向相同，奇數層與偶數層之間的繞制方向相反；有效充電平面為平行于線圈平面，位于線圈上方的具有較為均勻磁場分布的平面，此發射線圈上方的有效充電平面與發射線圈平面的豎直間距D≥0.25a。

2.根據權利要求1所述的發射線圈，其特征在于，其所用導線包含銅線、鐵線圈、漆包線或者利茲線；所述發射線圈固定于線圈基板平面之上或者位于線圈槽內。