[發(fā)明專利]熱敏電阻調(diào)阻方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710299873.0 | 申請日: | 2017-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN107134331B | 公開(公告)日: | 2019-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳宏偉;劉劍鋒;張繼華;沓世我;羅俊堯;朱佩;廖進(jìn)福 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東風(fēng)華高新科技股份有限公司;風(fēng)華研究院(廣州)有限公司;電子科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01C7/04 | 分類號: | H01C7/04 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 吳平 |
| 地址: | 526020 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熱敏電阻 方法 | ||
1.一種熱敏電阻的調(diào)阻方法,包括:
獲取多種預(yù)設(shè)圖形中的每一種預(yù)設(shè)圖形對應(yīng)的電阻增加率范圍;所述預(yù)設(shè)圖形用于形成在待調(diào)阻的片阻上,增加所述待調(diào)阻的片阻的阻值;所述預(yù)設(shè)圖形包括打點(diǎn)、單刀、雙刀、L型切口;
測量待調(diào)阻的片阻的實(shí)際阻值,并計(jì)算出達(dá)到目標(biāo)阻值所需要的增加率;
判斷所述所需要的增加率所處于的電阻增加率范圍,并獲取對應(yīng)的預(yù)設(shè)圖形;
將獲取到的預(yù)設(shè)圖形應(yīng)用于待調(diào)阻的片阻進(jìn)行修調(diào);
在將獲取到的預(yù)設(shè)圖形應(yīng)用于待調(diào)阻的片阻進(jìn)行修調(diào)的步驟中,對于滿足條件的多個(gè)電阻增加率范圍,選擇使調(diào)阻后電阻精度誤差最小的一個(gè)圖形進(jìn)行修調(diào);
所述獲取電阻增加率范圍的步驟包括:
對每種預(yù)設(shè)圖形,將其應(yīng)用于修調(diào)多個(gè)不同的片阻,獲取多個(gè)不同的片阻在應(yīng)用預(yù)設(shè)圖形修調(diào)前后的電阻增加率;
根據(jù)所獲得的多個(gè)電阻增加率確定每種預(yù)設(shè)圖形對應(yīng)的電阻增加率范圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,依次對多個(gè)片阻進(jìn)行調(diào)阻:在將獲取到的預(yù)設(shè)圖形應(yīng)用于當(dāng)前待調(diào)阻的片阻進(jìn)行修調(diào)的步驟之后,測量下一個(gè)待調(diào)阻的片阻的實(shí)際阻值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,依次對多個(gè)片阻進(jìn)行調(diào)阻:在將獲取到的預(yù)設(shè)圖形應(yīng)用于當(dāng)前待調(diào)阻的片阻進(jìn)行修調(diào)的同時(shí),測量下一個(gè)待調(diào)阻的片阻的實(shí)際阻值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,對修調(diào)后不符合預(yù)期的片阻根據(jù)再次確定的預(yù)設(shè)圖形進(jìn)行修調(diào)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,通過篩選使所有的電阻增加率范圍互不重疊并相互接續(xù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,還包括:將預(yù)設(shè)圖形和對應(yīng)的電阻增加率范圍對應(yīng)存儲于數(shù)據(jù)庫中,并將數(shù)據(jù)庫導(dǎo)入激光調(diào)阻機(jī)中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,所述多個(gè)預(yù)設(shè)圖形包括不同數(shù)量、相同或不同大小的圓點(diǎn)圖形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱敏電阻的調(diào)阻方法,其特征在于,在將獲取到的預(yù)設(shè)圖形應(yīng)用于待調(diào)阻的片阻進(jìn)行修調(diào)的步驟中,對于滿足條件的多個(gè)電阻增加率范圍,選擇其中一個(gè)進(jìn)行修調(diào)。
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