[發明專利]一種單霧滴荷質比測量裝置及方法在審
| 申請號： | 201710299823.2 | 申請日： | 2017-05-02 |
| 公開（公告）號： | CN107024622A | 公開（公告）日： | 2017-08-08 |
| 發明（設計）人： | 王貞濤;夏磊;董凱;詹水清 | 申請（專利權）人： | 江蘇大學 |
| 主分類號： | G01R29/24 | 分類號： | G01R29/24 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 霧滴 測量 裝置 方法 | ||
1.一種單霧滴荷質比測量裝置，包括相互平行的上電極板（3）和下電極板（8），上電極板（3）接地，下電極板（8）連接高壓電源（10），上電極板（3）和下電極板（8）之間產生電場，其特征是：上電極板（3）的上方布置一個霧滴速度與粒徑測量裝置（6），上電極板（3）和下電極板（8）之間的一側布置一個光源（1）、另一側布置一個高速數碼相機（7），上電極板（3）中心區域開有一個能容許單個霧滴通過的圓孔（5），單個霧滴在上電極板（3）和下電極板（8）之間電場的作用下產生的電場力垂直向上且大于單個霧滴的重力。
2.根據權利要求1所述的單霧滴荷質比測量裝置，其特征是：上電極板（3）的上表面緊貼一塊上絕緣板（2），下電極板（8）的下表面緊貼一塊下絕緣板（9），在上電極板（3）和上絕緣板（2）的中心區域開有圓孔（5）。
3.一種如權利要求1所述的單霧滴荷質比測量裝置的測量方法，其特征是包括以下步驟：
A）打開高壓電源（10）、光源（1）、高速數碼相機（7）和霧滴速度與粒徑測量裝置（6），單個霧滴通過圓孔（5）向下滴入電場中，霧滴速度與粒徑測量裝置（6）測量得到單個霧滴的速度v和粒徑d；
B）高速數碼相機（7）記錄霧滴軌跡圖像，獲得單個霧滴下降的最大距離ym；
C）將單個霧滴的速度v和粒徑d以及下降的最大距離ym通過公式和 計算出荷質比Aq；cq是單個霧滴的荷電量，rd是單個霧滴的密度；E0是上電極板（3）和下電極板（8）之間的電場強度，m是單個霧滴的質量。
4.根據權利要求3所述的測量方法，其特征是：步驟A）中，調節高壓電源（10）的電壓，使單個霧滴產生的電場力大于其重力。
5.根據權利要求3所述的測量方法，其特征是：步驟A）中，在單個霧滴向下滴入圓孔（5）之前，先通過密度計測量獲得單個霧滴的密度rd，再經公式計算獲得單個霧滴的質量m。
6.根據權利要求3所述的測量方法，其特征是：步驟B）中，調節上電極板（3）和下電極板（8）之間的距離，使最大距離ym小于上電極板（3）和下電極板8（之）間的垂直間距。
7.根據權利要求3所述的測量方法，其特征是：步驟B）中，高速數碼相機（7）將霧滴軌跡圖像輸入計算機，計算機通過圖像處理軟件測量獲得單個霧滴下降的最大距離ym。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇大學，未經江蘇大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710299823.2/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
