[發明專利]離子源、離子源注入設備及離子分布調整方法

在審

• 申請號: 201710296102.6
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN107093542A
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 田香軍;陳艷;王學勇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08;H01J37/317
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,劉偉

1.一種離子源，包括：

腔室；

多個放電部件，設置在所述腔室內，用于在加載電信號之后產生電子；

加速電極，設置在所述腔室內，用于與所述放電部件之間產生電場，以對電子加速；

磁場產生部件，設置在所述腔室上，用于在所述腔室內產生磁場；

氣體引入部，用于向所述腔室內引入氣體，以與電子碰撞產生離子；

及，離子引出部，用于將所述腔室內的離子引出；

其特征在于，所述離子源還包括：移動機構，所述放電部件通過所述移動機構以可移動地方式設置在所述腔室內。

2.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于，

所述移動機構包括：

滑動軌道，設置在所述腔室內；

滑塊，所述放電部件設置在所述滑塊上，所述滑塊設置在所述滑動軌道內，并能夠沿所述滑動軌道移動；

及，用于驅動所述滑動移動的驅動部件。

3.根據權利要求2所述的離子源，其特征在于，

所述驅動部件包括：

設置在所述滑動軌道上的絲杠，所述滑塊設置在所述絲杠內，并能夠與所述絲杠配合，沿所述絲杠移動；

及，用于驅動所述絲杠的驅動電機。

4.根據權利要求2所述的離子源，其特征在于，

所述移動機構還包括罩設在所述滑動軌道外的防塵罩。

5.根據權利要求2所述的離子源，其特征在于，

所述滑動軌道為一凹槽狀軌道，所述滑塊置于所述凹槽狀軌道內，且在所述滑塊的相對兩側分別設置有能夠與所述凹槽狀軌道的內壁結構相配合，以在所述滑塊移動過程中起密封作用的側密封組件。

6.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于，

每一所述放電部件單獨連接一所述移動機構，以使每一所述放電部件能夠單獨移動位置。

7.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于，

所述放電部件包括用于在加載電流之后放出電子的燈絲，所述燈絲包括：

燈絲本體，所述燈絲本體設置在所述移動機構上，并能夠被所述移動機構移動；

燈絲電流源接線柱，設置在所述腔室外；

及，軟質連接導線，所述軟質連接導線連接所述燈絲本體及所述燈絲電流源接線柱。

8.一種離子注入設備，其特征在于，包括如權利要求1至7任一項所述的離子源。

9.一種如權利要求1至7任一項所述的離子源的離子分布調整方法，其特征在于，所述方法包括：

向離子源的多個放電部件上加載電信號，控制所述離子源的腔室內產生離子；

監測當前離子源的腔室內引出的離子束電流密度均一性狀態；

根據監測的所述離子束電流密度均一性狀態，調整各所述放電部件的位置。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，

所述方法具體包括：

在所述放電部件包括的燈絲加載電流，以使所述燈絲放出電子，不同燈絲上所加載的電流值的差異值小于等于一預設差異值。

11.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，

所述方法中還包括：根據監測的所述離子束電流密度均一性狀態，調整各所述放電部件上所加載的電信號。