[發(fā)明專利]一種復(fù)合磁場(chǎng)傳感器及其制作工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710295965.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-28 | 
| 公開(公告)號(hào): | CN107091996B | 公開(公告)日: | 2023-06-06 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙曉鋒;鄧祁;艾春鵬;溫殿忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 黑龍江大學(xué) | 
| 主分類號(hào): | G01R33/06 | 分類號(hào): | G01R33/06;G01R33/09;G01R33/00;H10N50/10 | 
| 代理公司: | 北京康思博達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11426 | 代理人: | 劉冬梅;路永斌 | 
| 地址: | 150080 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 復(fù)合 磁場(chǎng) 傳感器 及其 制作 工藝 | ||
本發(fā)明公開了一種復(fù)合磁場(chǎng)傳感器及其制作工藝,其中,所述復(fù)合磁場(chǎng)傳感器包括磁敏三極管和復(fù)合在磁敏三極管上的遂穿磁敏電阻(TMR);其中,所述磁敏三極管的集電區(qū)設(shè)置于發(fā)射區(qū)的上方,所述基區(qū)設(shè)置于發(fā)射區(qū)和集電區(qū)的一側(cè),且所述基區(qū)制作在硅腐蝕坑內(nèi),提高了基區(qū)載流子注入能力,進(jìn)而提高磁敏三極管的磁敏特性;本發(fā)明所述制作工藝將微電子機(jī)械加工技術(shù)(MEMS)、雙極型工藝和納米薄膜制備技術(shù)相結(jié)合,得到所述復(fù)合磁場(chǎng)傳感器。本發(fā)明所述復(fù)合磁場(chǎng)傳感器將磁敏三極管與遂穿磁敏電阻進(jìn)行有效結(jié)合,兼具磁敏三極管的較強(qiáng)磁場(chǎng)檢測(cè)性能以及遂穿磁敏電阻的弱磁場(chǎng)檢測(cè)性能,實(shí)現(xiàn)了對(duì)磁場(chǎng)的寬量程檢測(cè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及磁場(chǎng)傳感器,尤其涉及具有寬量程的磁場(chǎng)傳感器,具體涉及一種具有寬量程的復(fù)合磁場(chǎng)傳感器及其制作工藝。
背景技術(shù)
隨著科學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展,傳感器技術(shù)倍受重視,尤其是廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代工業(yè)和電子產(chǎn)品的磁場(chǎng)傳感器,而隨著應(yīng)用的廣泛,對(duì)于磁場(chǎng)傳感器測(cè)量量程的要求也隨之增高。
在現(xiàn)有技術(shù)中,用于檢測(cè)磁場(chǎng)的傳感器包括磁敏三極管、各向異性磁電阻(AMR)、巨磁電阻(GMR)、遂穿磁敏電阻(TMR)和霍爾磁場(chǎng)傳感器等。但是,磁敏三極管用于檢測(cè)較強(qiáng)的磁場(chǎng),一般的檢測(cè)范圍為500~10000GS以上,而遂穿磁敏電阻(TMR)用于檢測(cè)弱磁場(chǎng),其一般的檢測(cè)范圍為1GS以下,但是,在應(yīng)用時(shí),所檢測(cè)的磁場(chǎng)不一定完全是強(qiáng)磁場(chǎng)或弱磁場(chǎng),而是較寬范圍的磁場(chǎng)強(qiáng)度,而根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)不能對(duì)寬量程磁場(chǎng)進(jìn)行檢測(cè)。
因此,為了能夠準(zhǔn)確的對(duì)環(huán)境中磁場(chǎng)進(jìn)行檢測(cè),亟需一種能夠?qū)崿F(xiàn)寬量程磁場(chǎng)測(cè)量的復(fù)合磁場(chǎng)傳感器及其制作工藝。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明人進(jìn)行了銳意研究,通過微電子機(jī)械加工技術(shù)(MEMS)、雙極型工藝和納米薄膜制備技術(shù)相結(jié)合將用于檢測(cè)強(qiáng)磁場(chǎng)的磁敏三極管和用于檢測(cè)弱磁場(chǎng)的遂穿磁敏電阻(TMR)進(jìn)行復(fù)合,使復(fù)合后的傳感器既可以檢測(cè)較強(qiáng)磁場(chǎng)(1GS~10000GS)又可以檢測(cè)弱磁場(chǎng)(0.001~1GS),同時(shí),在制作時(shí),對(duì)磁敏三極管中基區(qū)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行改善,采用硅腐蝕坑作為基區(qū),提高基區(qū)載流子注入,從而改善磁場(chǎng)檢測(cè)的靈敏度,使所述復(fù)合磁場(chǎng)傳感器可以檢測(cè)到最低0.001GS的磁感應(yīng)強(qiáng)度,這樣,有效互補(bǔ)了磁敏三極管與遂穿磁敏電阻TMR的測(cè)量范圍,得到一種具有寬量程(即0.001~10000GS)磁場(chǎng)檢測(cè)的復(fù)合磁場(chǎng)傳感器及其制作工藝,從而完成本發(fā)明。
本發(fā)明一方面提供了一種復(fù)合磁場(chǎng)傳感器,具體體現(xiàn)在以下幾方面:
(1)一種復(fù)合磁場(chǎng)傳感器,其中,所述復(fù)合磁場(chǎng)傳感器包括用于檢測(cè)較強(qiáng)磁場(chǎng)的磁敏三極管和用于檢測(cè)弱磁場(chǎng)的遂穿磁敏電阻TMR,其中,所述遂穿磁敏電阻TMR復(fù)合在所述磁敏三極管上,形成所述復(fù)合磁場(chǎng)傳感器;
所述較強(qiáng)磁場(chǎng)指1~10000GS的磁場(chǎng),所述弱磁場(chǎng)指0.001~1GS的磁場(chǎng)。
(2)根據(jù)上述(1)所述的復(fù)合磁傳感器,其中,
所述磁敏三極管包括第一硅片1和第二硅片2,優(yōu)選地,所述第一硅片1的厚度為30μm,所述第二硅片的厚度為400~425μm,更優(yōu)選地,在第一硅片1和第二硅片2上刻蝕有發(fā)射區(qū)、集電區(qū)和基區(qū),并在發(fā)射區(qū)、集電區(qū)和基區(qū)表面蒸鍍Al引線,分別形成發(fā)射極E、集電極C和基極B;和/或
所述遂穿磁敏電阻TMR為多層膜結(jié)構(gòu),優(yōu)選為三層膜結(jié)構(gòu),更優(yōu)選地,所述遂穿磁敏電阻TMR自下往上依次包括第一磁性材料層、絕緣層和第二磁性材料層。
(3)根據(jù)上述(1)或(2)所述的復(fù)合磁場(chǎng)傳感器,其中,
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