[發(fā)明專利]一種絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710294910.9
• 申請(qǐng)日: 2017-04-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106910580B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 方志;苗傳潤(rùn);張波;王乾;劉峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): H01B19/04
• 分類號(hào): H01B19/04
• 代理公司: 南京君陶專利商標(biāo)代理有限公司 32215
• 代理人: 沈根水

1.絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是采用了絕緣子表面等離子體憎水性改性處理裝置，該絕緣子表面等離子體憎水性改性處理裝置包括主氣道調(diào)節(jié)閥、次氣道調(diào)節(jié)閥、氣體混合腔、氣液兩相混合腔、一級(jí)分流閥、二級(jí)分流調(diào)節(jié)閥、二級(jí)分流閥、等離子體反應(yīng)器、機(jī)械卡盤(pán)、高壓電源；其中，主氣道調(diào)節(jié)閥位于主氣道上，次氣道調(diào)節(jié)閥位于次氣道上，次氣道上串接有氣液兩相混合腔，主氣道與次氣道分別與氣體混合腔相接，氣體混合腔依次通過(guò)一級(jí)分流閥、二級(jí)分流調(diào)節(jié)閥、二級(jí)分流閥后與等離子體反應(yīng)器相接，等離子體反應(yīng)器外接高壓電源，等離子體反應(yīng)器上的噴射口與機(jī)械卡盤(pán)對(duì)應(yīng)放置；所述絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法包括以下步驟：

（1）絕緣子表面等離子體清潔處理；

（2）絕緣子表面等離子體憎水性改性處理；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述步驟（1）絕緣子表面等離子體清潔處理，包括以下步驟：

1）將絕緣子固定在機(jī)械卡盤(pán)上；

2）調(diào)節(jié)機(jī)械卡盤(pán)轉(zhuǎn)速；

3）打開(kāi)主氣道調(diào)節(jié)閥；

4）打開(kāi)二級(jí)分流調(diào)節(jié)閥；

5）施加高壓產(chǎn)生第一等離子體；

6）停轉(zhuǎn)機(jī)械卡盤(pán)撤去高壓；

7）檢查絕緣子表面清潔程度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述調(diào)節(jié)機(jī)械卡盤(pán)轉(zhuǎn)速使絕緣子在絕緣子表面等離子體清潔過(guò)程中隨機(jī)械卡盤(pán)以每秒1°至10°的角速度勻速轉(zhuǎn)動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述打開(kāi)主氣道調(diào)節(jié)閥和打開(kāi)二級(jí)分流調(diào)節(jié)閥后，在等離子體反應(yīng)器中通入惰性氣體；在等離子體反應(yīng)器內(nèi)對(duì)所通入的惰性氣體施加高壓產(chǎn)生第一等離子體；第一等離子體中含有有強(qiáng)氧化性和去污能力的氧原子和氫氧根活性粒子。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述步驟（2）絕緣子表面等離子體憎水性改性處理,包括以下步驟：

1）向氣液兩相混合器中添加憎水性物質(zhì)；

2）打開(kāi)次氣道調(diào)節(jié)閥；

3）調(diào)節(jié)機(jī)械卡盤(pán)轉(zhuǎn)速；

4）施加高壓產(chǎn)生第二等離子體；

5）絕緣子表面憎水改性處理。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述向氣液兩相混合器中添加憎水性物質(zhì)中添加的憎水性物質(zhì)包括四氯化硅、六甲基二硅醚、四甲基烷、三氯硅烷中的一種或幾種。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述打開(kāi)次氣道調(diào)節(jié)閥，在次氣道中通入和主氣道相同的惰性氣體，次氣道中的惰性氣體流經(jīng)氣液兩相混合器后進(jìn)入氣體混合腔，在氣體混合腔內(nèi)次氣道中的惰性氣體和主氣道中的惰性氣體混合形成工作氣體，通過(guò)次氣道調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)次氣道中惰性氣體經(jīng)過(guò)氣液兩相混合器時(shí)帶走憎水性物質(zhì)的量，進(jìn)而控制最終工作氣體中憎水性物質(zhì)的比例含量，工作氣體中憎水性物質(zhì)的體積含量控制在0.01%至0.2%之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的絕緣子表面等離子體憎水性改性一體化處理方法，其特征是所述調(diào)節(jié)機(jī)械卡盤(pán)轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)絕緣材料表面改性的速率，在憎水性改性過(guò)程中機(jī)械卡盤(pán)的轉(zhuǎn)速在每秒鐘1°至4°之間。