[發(fā)明專利]顯影構(gòu)件、處理盒和電子照相圖像形成設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710294331.4 | 申請日: | 2017-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN107340700B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 石井亨;中村實(shí);森下博司;松永賢太 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 北京魏啟學(xué)律師事務(wù)所 11398 | 代理人: | 魏啟學(xué) |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 構(gòu)件 處理 電子 照相 圖像 形成 設(shè)備 | ||
1.一種顯影構(gòu)件(1),其包括基體(3)和表面層(2),
所述表面層(2)包含氧化鋁顆粒(501)和樹脂(6),
所述顯影構(gòu)件(1)在表面上具有凸部(201),
每個所述凸部(201)包含所述氧化鋁顆粒(501-1、501-2、501-3),
每個所述凸部(201)中包含的所述氧化鋁顆粒(501-1、501-2)中的一部分或全部在每個所述凸部(201)的表面露出,和
在每個所述凸部(201)中包含的所述氧化鋁顆粒(501-1、501-2、501-3)之間存在所述樹脂(6),
其特征在于,
所述氧化鋁顆粒(501)具有20nm以上且50nm以下的平均粒徑,并且具有0.80以下的在粒徑分布中的變動系數(shù),
變動系數(shù)=(直徑的標(biāo)準(zhǔn)偏差σ)/(平均粒徑DM)
所述顯影構(gòu)件(1)的表面具有0.10μm以上且2.00μm以下的如JIS B0601:2013中記載的由所述凸部(201)產(chǎn)生的平均高度Rc,和
所述表面層(2)具有0.005mm以上且0.1mm以下的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影構(gòu)件(1),
其中所述氧化鋁顆粒(501)的形狀為球狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影構(gòu)件(1),
其中所述樹脂(6)為含氮樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影構(gòu)件(1),
其中所述樹脂(6)為聚氨酯樹脂。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影構(gòu)件(1),
其中所述顯影構(gòu)件(1)的表面的鋁原子濃度為1.50原子%以上且10.0原子%以下。
6.一種電子照相處理盒,其可拆卸地安裝在電子照相設(shè)備的主體上,所述電子照相處理盒的特征在于,
所述電子照相處理盒包括根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的顯影構(gòu)件(1)。
7.一種電子照相圖像形成設(shè)備,其包括:
用于承載靜電潛像的圖像載體(21),
用于使所述圖像載體(21)一次帶電的充電設(shè)備,
用于在一次帶電的圖像載體(21)上形成靜電潛像的曝光設(shè)備,
用于利用調(diào)色劑使所述靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像的顯影構(gòu)件(24),和
用于使所述調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印材料上的轉(zhuǎn)印設(shè)備,
其特征在于,所述顯影構(gòu)件(24)為根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的顯影構(gòu)件。
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G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
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