[發(fā)明專利]一種光觸媒膜、其制備方法及應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710293509.3
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN108787392A
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 何順倫
• 申請（專利權(quán)）人: 何順倫
• 主分類號: B05D7/00
• 分類號: B05D7/00;B05D7/02;B05D3/14;B05D5/00;F25D27/00
• 代理公司: 北京和信華成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

1.一種光觸媒膜，其特征在于，所述光觸媒膜設(shè)置于基材上，所述光觸媒膜包括多孔材料層和二氧化鈦光觸媒層，所述二氧化鈦光觸媒層設(shè)置于所述多孔材料表層內(nèi)部和/或所述多孔材料的表面；

所述基材優(yōu)選透明材料，更優(yōu)選玻璃或者樹脂，所述樹脂優(yōu)選PC、PMMA、PS。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光觸媒膜，其特征在于，所述光觸媒膜包括多孔材料層和位于所述多孔材料內(nèi)部的光觸媒滲透層；

或，所述光觸媒膜包括位于所述多孔材料內(nèi)部的光觸媒滲透層；

所述光觸媒滲透層通過二氧化鈦光觸媒材料分布于所述多孔材料層內(nèi)的空隙中形成；

優(yōu)選的，所述多孔材料表面還設(shè)置有光觸媒表面層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光觸媒膜，其特征在于，所述多孔材料層的原料選自介孔材料或大孔材料，并優(yōu)選介孔材料，所述介孔材料優(yōu)選硅藻土介孔材料、磷灰石介孔材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光觸媒膜，其特征在于，所述多孔材料層的厚度為200～250μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光觸媒膜，其特征在于，所述二氧化鈦光觸媒層的厚度為200～400μm，優(yōu)選250～350μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光觸媒膜，其特征在于，所述光觸媒膜為可見光觸發(fā)型二氧化鈦光觸媒，選自硫化鎘摻雜的二氧化鈦、三氧化鎢摻雜的二氧化鈦、氮取代型氧化鈦、缺氧型二氧化鈦、貴金屬修飾型二氧化鈦；優(yōu)選氮取代型氧化鈦、缺氧型二氧化鈦。

7.如權(quán)利要求1～6任一權(quán)利要求所述的光觸媒膜的制備方法，其特征在于，至少包括以下步驟：

(1)對所述基材表面進行預(yù)處理，所述預(yù)處理優(yōu)選采用低溫等離子處理，優(yōu)選的，處理時間為4～10min，更優(yōu)選5～6min。

(2)在所述基材表面制備所述多孔材料層；

(3)將二氧化鈦光觸媒負載于所述多孔材料層上，即得所述光觸媒膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，將多孔材料配制成水乳液，噴涂于所述基材表面，所述多孔材料的粒徑優(yōu)選為40～100nm，更優(yōu)選50～70nm；所述水乳液的質(zhì)量百分比濃度為2～15wt％，優(yōu)選5～10％。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，將光觸媒材料配置成乳液，采用噴涂法或提拉法在所述多孔材料層上進行負載，所述光觸媒材料的粒徑優(yōu)選為10～30nm，更優(yōu)選10～15nm；所述乳液的質(zhì)量百分比濃度為1～10％。

10.一種照明設(shè)備，所述照明設(shè)備上具有被權(quán)利要求1～6所述的光觸媒膜覆蓋的部位。

11.如權(quán)利要求10所述的照明設(shè)備在冷藏設(shè)備中的應(yīng)用。