[發明專利]一種利用率高的靶材系統及其使用方法

有效

• 申請號: 201710291171.8
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN106947950B
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 劉偉基;冀鳴;陳蓓麗
• 申請（專利權）人: 中山市博頓光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214
• 代理人: 吝秀梅;李彥孚

1.一種利用率高的靶材系統，其特征在于，包括第一背板(1)、第二背板(2)、密封腔(3)、第一驅動裝置(4)、旋轉軸(5)及第二驅動裝置(6)；密封腔(3)設于第一背板(1)與第二背板(2)之間，第一驅動裝置(4)固定于密封腔(3)內并與第一背板(1)及第二背板(2)同軸連接；旋轉軸(5)的兩端分別與第二驅動裝置(6)及密封腔(3)連接；

第一背板(1)及第二背板(2)遠離密封腔(3)的一面均設有金屬結構，第一背板(1)及第二背板(2)分別通過金屬結構與第一濺射靶材及第二濺射靶材連接；

第一驅動裝置(4)與第一背板(1)及第二背板(2)的連接軸內均設有水路冷卻系統；

所述的靶材系統的使用方法，包括如下步驟：

S1、將第一靶材及第二靶材分別固定于第一背板(1)及第二背板(2)上；

S2、控制第二驅動裝置(6)工作，第二驅動裝置(6)驅動旋轉軸(5)旋轉使第一靶材正對離子源濺射裝置(8)后，控制第二驅動裝置(6)停止工作，利用離子源濺射裝置(8)對第一靶材進行濺射，且濺射過程中通過第一驅動裝置(4)控制第一背板(1)持續轉動；

S3、當第一靶材濺射結束后，控制第二驅動裝置(6)工作，第二驅動裝置(6)驅動旋轉軸(5)旋轉使第二靶材正對離子源濺射裝置(8)后，控制第二驅動裝置(6)停止工作，利用離子源濺射裝置(8)對第二靶材進行濺射，且濺射過程中通過第一驅動裝置(4)控制第二背板(2)持續轉動；當第二靶材濺射完畢后，停止離子源濺射裝置(8)及第一驅動裝置(4)的工作。

2.根據權利要求1所述的一種利用率高的靶材系統，其特征在于，所述金屬結構為錫金屬結構、銦金屬結構或銦錫合金金屬結構中的任一種。

3.根據權利要求2所述的一種利用率高的靶材系統，其特征在于，所述金屬結構為銦金屬結構。

4.根據權利要求1所述的一種利用率高的靶材系統，其特征在于，第一背板(1)及第二背板(2)均為圓形背板。

5.根據權利要求1所述的一種利用率高的靶材系統，其特征在于，還包括安裝座(7)，所述的第二驅動裝置(6)固定于安裝座(7)上。

6.根據權利要求5所述的一種利用率高的靶材系統，其特征在于，第一驅動裝置(4)為雙輸出軸的電機，第二驅動裝置(6)為單輸出軸的電機。