[發明專利]一種可加入不同應力吸收帶的對熔覆層

在審

• 申請號: 201710290509.8
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN108796495A
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 張曉波
• 申請（專利權）人: 天津萬世達激光技術有限公司
• 主分類號: C23C24/10
• 分類號: C23C24/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可加入不同應力吸收帶的對熔覆層，包括對熔覆層本體(1)，其特征在于：所述對熔覆層本體(1)的頂部開有凹槽(2)，所述對熔覆層本體(1)的內部設有中空內腔(3)，所述中空內腔(3)的內腔左側壁上下設有兩組預緊裝置(4)，兩組所述預緊裝置(4)的右端頂部和底部均對稱設有導向塊(5)。

2.根據權利要求1所述的一種可加入不同應力吸收帶的對熔覆層，其特征在于：所述預緊裝置(4)包括外管(41)，所述外管(41)的內腔滑動連接有內柱(42)，所述外管(41)與內柱(42)之間設有彈性件(43)，所述彈性件(43)的一端與內柱(42)的右端連接，所述彈性件(43)的另一端與外管(41)的內腔右側壁連接。

3.根據權利要求1所述的一種可加入不同應力吸收帶的對熔覆層，其特征在于：所述對熔覆層本體(1)包括抗腐蝕層(11)，所述抗腐蝕層(11)的右側設有抗氧化層(12)，所述抗氧化層(12)的右側設有抗沖擊層(13)。

4.根據權利要求1所述的一種可加入不同應力吸收帶的對熔覆層，其特征在于：所述對熔覆層本體(1)為合金鋼層。